EDI电除盐模块清洗及消毒模式
•直通逆流（低及高pH值都可）再循环（氧化剂）
•可选清洗模式: 再循环,或直通,顺流(低及高 pH值都可)
步骤
注意: 以下列出的流速为直通情况。再循环清洗及消毒过程在通常情况下都以相同流速进行。
•步骤 1. 氯化钠 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)
•步骤 2.
a) 低pH值: 盐酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)
或
b) 高pH值: 氢氧化钠NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)
或
c) 氧化剂: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +过氧化氢H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)
•按照说明书配制用于商业浓度的RO消毒溶液（阅读上面所提的清洗化学品规范要求）。总体来说，浓水为已用水按1：100的比例稀释过。
• (*按照步骤 2a或 2b 步骤 2c后不要求.)
氯化钠 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)
•步骤 4.水冲洗: 将RO产水水质的水引入浓水管线环中直到产水电导率>0.02 MO或等 同于进水(至少为 2 L (0.5 gal))
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清洗
随着工作时间的累积，需要对美国IonpureEDI模块进行清洗及消毒，这是因为：
-硬度或金属结垢，主要产生在浓水室内；
-在离子交换树脂或膜形成无机物污垢（例如，硅）；
-在离子交换树脂或膜形成有机物污垢；
- EDI模块和系统管道及其它部件的生物污垢；
-以上所有情况一起出现在某些情况下，需要使用一种以上的清洗方法。
高温消毒
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例行的消毒比较好使用高温消毒。低浓度的氧化剂消毒不可用于例行的消毒，只适用于严重的生物污堵的消毒,消毒时先进行低浓度氧化剂消毒，再用高PH清洗。
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