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    在这种情况下，半导体层可以包含非晶硅。尽管未示出，但是栅极线和数据线彼此交叉以限定像素区域，并且形成切换tft以与栅极线和数据线连接。切换tft与作为驱动元件的tfttr连接。此外，还可以形成电力线，所述电力线可以形成为与栅极线和数据线中的一者平行并间隔开；和用于在一帧中保持tfttr的栅极电极的电压的存储电容器。形成有钝化层350以覆盖tfttr，钝化层350包括暴露tfttr的漏电极342的漏极接触孔352。在各像素中单独形成有电极220，电极220通过漏极接触孔352与tfttr的漏电极342连接。电极220可以为阳极，并且可以由具有相对高的功函数的导电材料形成。例如，电极220可以由透明导电材料例如ito或izo形成。可以在电极220下方形成反射电极或反射层。例如，反射电极或反射层可以由铝-钯-铜(apc)合金形成。在钝化层350上形成有堤层360以覆盖电极220的边缘。即，堤层360被定位在像素的边界并且暴露像素中的电极220的中心。堤层360可以省略。在电极220上形成有有机发光层290。参照图5，有机发光层290包括发光部分250，发光部分250包括有eml240；和第二发光部分270，第二发光部分270包括有第二eml260。例如。捷捷微大功率二极管原装现货。温州二极管企业

    所以二pmos管mp2管的源极电压可以随着输入改变，从而将其钳位到步进电压处。本发明提出通过引入负电源电压vne对apd的偏压进行调节，为了使四pmos管mp4和五pmos管mp5的源端电压为0v时，四pmos管mp4和五pmos管mp5仍能开启，四pmos管mp4和五pmos管mp5的栅极电压至少要比各自的源极电压低一个阈值电压vth，而四pmos管mp4和五pmos管mp5的栅极电压分别由二电阻r2和三电阻r3上的压降决定，pmos管的阈值电压vth接近1v，所以负电源电压vne可以设置为-1v。可见本发明通过引入负电源电压vne扩大了apd偏置电压的调节范围。一些实施例中，一运算放大器op1的输出端和一pmos管mp1的栅极之间还设置有一电平位移电路，二运算放大器op2的输出端和三pmos管mp3的栅极之间还设置有二电平位移电路，电平位移电路能够保证二pmos管mp2、四pmos管mp4的源端电位更好地钳位在步进电压和0v处。为了精简电路，像素外偏置电压产生模块中一运算放大器和二运算放大器可以采用相同的结构，如均采用折叠式共源共栅运放结构或其他类型的运放结构。如图2所示给出了折叠式共源共栅运放结构的实现形式，本实施例以一运算放大器为例进行说明。重庆进口二极管稳压捷捷微稳压二极管原装现货。

    五pmos管mp5的栅极连接一电流镜单元的输出端和二电流镜单元的输出端并通过三电阻r3后连接负电源电压vne，其漏极连接负电源电压vne，其源极输出浮动地电压作为雪崩光电二极管的偏置电压。浮动地电压连接复位管gn的源极，复位管gn的漏极连接淬灭管gp的源极和雪崩光电二极管的的阳极。一电流镜单元用于将流过一pmos管mp1的电流按比例镜像，实施例中提出一种比例电流镜结构，能够步进调节镜像的电流比例，如图1所示，一电流镜单元包括一开关s1、二开关s2、三开关s3、六pmos管mp6、七pmos管mp7和八pmos管mp8，其中一pmos管、六pmos管、七pmos管和八pmos管的宽长比之比为1:1:2:4；六pmos管mp6、七pmos管mp7和八pmos管mp8的栅极均连接一pmos管mp1的栅极，其源极均连接电源电压，其漏极分别通过一开关s1、二开关s2和三开关s3后连接一电流镜单元的输出端。本实施例中一电流镜单元中六pmos管mp6、七pmos管mp7和八pmos管mp8分别与一pmos管mp1构成电流镜结构，且由于一pmos管、六pmos管、七pmos管和八pmos管的宽长比之比为1:1:2:4，因此六pmos管mp6、七pmos管mp7和八pmos管mp8分别能够按照1:1、1:2、1:4的比例镜像一pmos管mp1的电流，结合对一开关s1、二开关s2、三开关s3的控制。

    栅极绝缘层324可以被图案化成具有与栅极电极330相同的形状。在栅极电极330上形成有由绝缘材料形成的层间绝缘层332。层间绝缘层332可以由无机绝缘材料(例如硅氧化物或硅氮化物)或有机绝缘材料(例如苯并环丁烯或光压克力(photo-acryl))形成。层间绝缘层332包括暴露半导体层322的两侧的接触孔334和第二接触孔336。接触孔334和第二接触孔336被定位在栅极电极330的两侧以与栅极电极330间隔开。接触孔334和第二接触孔336形成为穿过栅极绝缘层324。或者，当栅极绝缘层324被图案化成具有与栅极电极330相同的形状时，接触孔334和第二接触孔336形成为只穿过层间绝缘层332。在层间绝缘层332上形成有由导电材料(例如金属)形成的源电极340和漏电极342。源电极340和漏电极342相对于栅极电极330彼此间隔开，并且分别通过接触孔334和第二接触孔336接触半导体层322的两侧。半导体层322、栅极电极330、源电极340和漏电极342构成tfttr。tfttr用作驱动元件。在tfttr中，栅极电极330、源电极340和漏电极342被定位在半导体层322上方。即，tfttr具有共面结构。或者，在tfttr中，栅极电极可以被定位在半导体层下方，并且源电极和漏电极可以被定位在半导体层上方，使得tfttr可以具有倒置交错结构。捷捷微肖特基二极管原装现货。

    第二电极412为用于注入电子的阴极并且包含低的功函数的导电材料例如al、mg或al-mg合金。cgl480和第二cgl490分别被定位在发光部分430与第二发光部分450之间和第二发光部分450与第三发光部分470之间。即，发光部分430、cgl480、第二发光部分450、第二cgl490和第三发光部分470顺序堆叠在电极410上。换言之，发光部分430被定位在电极410与cgl480之间，第二发光部分450被定位在cgl480与第二cgl490之间。此外，第三发光部分470被定位在第二电极412与第二cgl490之间。发光部分430可以包括顺序堆叠在电极410上的hil432、htl434、eml420和etl436。即，hil432和htl434被定位在电极410与eml420之间，hil432被定位在电极410与htl434之间。此外，etl436被定位在eml420与cgl480之间。eml420包含蓝色掺杂剂422。例如，蓝色掺杂剂422可以为荧光化合物、磷光化合物和延迟荧光掺杂剂中的一者。尽管未示出，但是eml420还可以包含基质。相对于基质，蓝色掺杂剂422的重量百分比可以为约1％至40％，推荐为3％至40％。第二发光部分450可以包括第二htl452、第二eml440和第二etl454。第二htl452被定位在cgl480与第二eml440之间，第二etl454被定位在第二eml440与第二cgl490之间。广东乐山二极管代理商公司。惠州panjit二极管质量好的

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    基质的重量百分比为约50％至80％。相对于基质，延迟荧光掺杂剂152的重量百分比可以为约20％至70％，磷光掺杂剂154的重量百分比可以为约％至2％。基质可以由式7-1或式7-2表示。[式7-1][式7-2]在式7-1中，x为o、s或nr，以及r为c6-c30芳基。在式7-1和式7-2中，y为o或s。在式7-1和式7-2中，r1至r15各自地选自氢、c1-c20烷基、c1-c20烷氧基、c1至c20烷基甲硅烷基、c6-c30芳基、c5-c30杂芳基和胺。例如，基质可以选自式8。[式8]有机发光层140还包括在电极120与eml150之间的空穴传输层(htl)164、在电极120与htl164之间的空穴注入层(hil)162、在eml150与第二电极130之间的电子传输层(etl)174和在etl174与第二电极130之间的电子注入层(eil)176。hil162、htl164、etl174和eil176中的至少一者可以省略。此外，有机发光层140还可以包括在htl164与eml150之间的电子阻挡层(ebl)166和在eml150与etl174之间的空穴阻挡层(hbl)172。ebl166和hbl172中的至少一者可以省略。oledd1包含发射绿色光的延迟荧光掺杂剂152和具有比延迟荧光掺杂剂152更小的重量百分比并发射红色光的磷光掺杂剂154，使得发射绿色波长范围的光和红色波长范围的光二者。即，在oledd1中。温州二极管企业

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