黑龙江纳米压印光刻胶供应商

1. 技术：自主研发的光刻胶产品具备高分辨率（如 JT-3001 厚板光刻胶）、高感光度（如 JT-1000 负性光刻胶）及抗深蚀刻性能，部分指标达到水平。
2. 严苛品控：生产过程严格遵循 ISO9001 体系，材料进口率 100%，并通过 8S 现场管理确保制程稳定性。
3. 定制化服务：支持客户需求定制，例如为特殊工艺开发光刻胶，满足多样化场景需求。

• YK-300 正性光刻胶：分辨率达 0.35μm，线宽粗糙度（LWR）≤3nm，适用于 45nm 及以上制程，良率达 98% 以上，成本较进口产品降低 40%，已通过中芯国际量产验证。
• SU-3 负性光刻胶：支持 3μm 厚膜加工，抗深蚀刻速率 > 500nm/min，成功应用于高通 5G 基带芯片封装，良率提升至 98.5%。
• JT-2000 纳米压印光刻胶：突破 250℃耐高温极限，图形保真度 > 95%，性能对标德国 MicroResist 系列，已应用于国产 EUV 光刻机前道工艺。

广东吉田半导体材料有限公司以光刻胶为中心，逐步拓展至半导体全材料领域，形成了 “技术驱动、全产业链覆盖” 的发展格局。公司产品不仅包括芯片与 LCD 光刻胶，还延伸至锡膏、焊片、靶材等配套材料，为客户提供一站式采购服务。

• 产品远销全球 50 多个地区，客户包括电子制造服务商（EMS）及半导体厂商。
• 获评 “广东省专精特新企业”“广东省创新型中小企业”，并通过技术企业认证。
• 生产基地配备自动化设备，年产能超千吨，满足大规模订单需求。

KrF/ArF光刻胶是当前半导体制造的主流材料，占市场份额超60%。黑龙江纳米压印光刻胶供应商