企业商机

南京网版光刻胶生产厂家

“设备-材料-工艺”闭环验证吉田半导体与中芯国际、华虹半导体等晶圆厂建立了联合研发机制，针对28nm及以上成...

光刻胶基本参数

品牌
吉田半导体
型号
型号齐全

光刻胶企业商机

“设备-材料-工艺”闭环验证

吉田半导体与中芯国际、华虹半导体等晶圆厂建立了联合研发机制，针对28nm及以上成熟制程开发专门使用光刻胶，例如其KrF光刻胶已通过中芯国际北京厂的产线验证，良率达95%以上。此外，公司参与国家重大专项（如02专项），与中科院微电子所合作开发EUV光刻胶基础材料，虽未实现量产，但在酸扩散控制和灵敏度优化方面取得阶段性突破。

政策支持与成本优势

作为广东省专精特新企业，吉田半导体享受税收优惠（如15%企业所得税）和研发补贴（2023年获得国家补助超2000万元），比较明显降低产品研发成本。同时，其本地化生产（东莞松山湖基地）可将物流成本压缩至进口产品的1/3，并实现48小时紧急订单响应，这对中小客户具有吸引力。

吉田半导体实现光刻胶技术突破，为半导体产业链自主化提供材料支撑。南京网版光刻胶生产厂家

广东吉田半导体材料有限公司成立于松山湖经济技术开发区，是一家专注于半导体材料研发、生产与销售的技术企业。公司注册资本 2000 万元，拥有 23 年行业经验，产品涵盖芯片光刻胶、纳米压印光刻胶、LCD 光刻胶、半导体锡膏、焊片及靶材等，服务全球市场并与多家世界 500 强企业建立长期合作关系。

作为国家技术企业，吉田半导体以科技创新为驱动力，拥有多项技术，并通过 ISO9001:2008 质量体系认证。生产过程严格遵循 8S 现场管理标准，原材料均采用美、德、日等国进口的材料，确保产品质量稳定可靠。公司配备全自动化生产设备，具备行业大型的规模化生产能力，致力于成为 “半导体材料方案提供商”。

其明星产品包括：适用于 LCD 制造的正性光刻胶 YK-200/YK-300，具备高分辨率与优异涂布性能；3 微米负性光刻胶 SU-3，适用于厚膜工艺；耐高温达 250℃的纳米压印光刻胶 JT-2000，可满足高精度微纳加工需求。所有产品均符合要求，部分型号通过欧盟 ROHS 认证。

珠海PCB光刻胶厂家半导体材料选吉田，欧盟认证，支持定制化解决方案！

作为中国半导体材料领域的企业，吉田半导体材料有限公司始终以自研自产为战略，通过 23 年技术沉淀与持续创新，成功突破多项 “卡脖子” 技术，构建起从原材料到成品的全链条国产化能力。其自主研发的光刻胶产品已覆盖芯片制造、显示面板、精密电子等领域，为国内半导体产业链自主化提供关键支撑。

吉田半导体依托自主研发中心与产学研合作，在光刻胶领域实现多项技术突破：

YK-300 正性光刻胶：分辨率达 0.35μm，线宽粗糙度（LWR）≤3nm，适用于 45nm 及以上制程，良率达 98% 以上，成本较进口产品降低 40%，已通过中芯国际量产验证。
SU-3 负性光刻胶：支持 3μm 厚膜加工，抗深蚀刻速率 > 500nm/min，成功应用于高通 5G 基带芯片封装，良率提升至 98.5%。
JT-2000 纳米压印光刻胶：突破 250℃耐高温极限，图形保真度 > 95%，性能对标德国 MicroResist 系列，已应用于国产 EUV 光刻机前道工艺。

吉田半导体突破光刻胶共性难题，提升行业生产效率，通过优化材料配方与工艺，吉田半导体解决光刻胶留膜率低、蚀刻损伤等共性问题，助力客户降本增效。
针对传统光刻胶留膜率低、蚀刻损伤严重等问题，吉田半导体研发的 T150A KrF 光刻胶留膜率较同类产品高 8%，密集图形侧壁垂直度达标率提升 15%。其纳米压印光刻胶采用特殊交联技术，在显影过程中减少有机溶剂对有机半导体的损伤，使芯片良率提升至 99.8%。这些技术突破有效降低客户生产成本，推动行业生产效率提升。吉田半导体公司基本概况。

不同光刻胶类型的适用场景对比

类型波长范围分辨率典型应用产品

G线/i线光刻胶 436/365nm ≥1μm PCB、LCD黑色矩阵吉田半导体JT-100系列

KrF光刻胶 248nm 0.25-1μm 28nm以上芯片、Mini LED制备吉田半导体YK-300系列

ArF光刻胶 193nm 45nm-0.25μm 14nm及以上芯片、OLED电极图案化国际主流：JSR ARF系列

EUV光刻胶 13.5nm ≤7nm 7nm以下先进制程、3D NAND堆叠研发中（吉田半导体合作攻关）

水性光刻胶全波长适配 5-50μm 柔性显示、环保PCB阻焊层吉田半导体WT-200系列

总结：多领域渗透的“工业维生素”

光刻胶的应用深度绑定电子信息产业，从半导体芯片的“纳米级雕刻”到PCB的“毫米级线路”，再到显示面板的“色彩精细控制”，其技术参数（分辨率、耐蚀刻性、灵敏度）需根据场景设计。随着**新能源（车规芯片、光伏）、新型显示（Micro LED）、先进制造（纳米压印）**等领域的发展，光刻胶的应用边界将持续扩展，成为支撑制造的关键材料。

LCD 光刻胶供应商哪家好?吉田半导体高分辨率+低 VOC 配方!河南激光光刻胶厂家

技术突破加速国产替代，国产化布局赢得市场。南京网版光刻胶生产厂家

技术挑战

光刻胶作为半导体、显示面板等高级制造的材料，其技术挑战主要集中在材料性能优化、制程精度匹配、复杂环境适应性以及产业自主化突破等方面

南京网版光刻胶生产厂家

• 高分辨率：随着半导体制程向3nm、2nm推进，需开发更高精度的EUV光刻胶，解决光斑扩散、线宽控制等问题。

• 灵敏度与稳定性：平衡感光速度和图案抗蚀能力，适应极紫外光（13.5nm）的低能量曝光。

• 国产化替代：目前光刻胶（如EUV、ArF浸没式）长期被日本、美国企业垄断，国内正加速研发突破。

光刻胶的性能直接影响芯片制造的良率和精度，是支撑微电子产业的“卡脖子”材料之一。

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