企业商机
光刻胶基本参数
  • 品牌
  • 吉田半导体
  • 型号
  • 型号齐全
光刻胶企业商机

LCD 正性光刻胶(YK-200)应用场景:LCD 面板的电极图案化(如 TFT-LCD 的栅极、源漏极)、彩色滤光片制造。特点:高感光度与均匀涂布性,确保显示面板的高对比度和色彩还原度。
厚膜光刻胶(JT-3001)应用场景:Mini LED/Micro LED 显示基板的巨量转移技术,以及 OLED 面板的封装工艺。特点:膜厚可控(可达数十微米),满足高密度像素阵列的精细加工需求。
PCB 光刻胶(如 SU-3 负性光刻胶)应用场景:高多层 PCB、HDI(高密度互连)板的线路成像,以及 IC 载板的精细线路制作。特点:抗电镀性能优异,支持细至 50μm 以下的线宽 / 线距,适应 5G 通信、服务器等 PCB 需求。 无卤无铅锡膏厂家吉田,RoHS 认证,为新能源领域提供服务!西安油墨光刻胶感光胶

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技术研发:从配方到工艺的经验壁垒

 配方设计的“黑箱效应”
光刻胶配方涉及成百上千种成分的排列组合,需通过数万次实验优化。例如,ArF光刻胶需在193nm波长下实现0.1μm分辨率,其光酸产率、热稳定性等参数需精确匹配光刻机性能。日本企业通过数十年积累形成的配方数据库,国内企业短期内难以突破。

 工艺控制的极限挑战
光刻胶生产需在百级超净车间进行,金属离子含量需控制在1ppb以下。国内企业在“吸附—重结晶—过滤—干燥”耦合工艺上存在技术短板,导致产品批次一致性差。例如,恒坤新材的KrF光刻胶虽通过12英寸产线验证,但量产良率较日本同类型产品低约15%。

 EUV光刻胶的“代际鸿沟”
EUV光刻胶需在13.5nm波长下工作,传统有机光刻胶因吸收效率低、热稳定性差面临淘汰。国内企业如久日新材虽开发出EUV光致产酸剂,但金属氧化物基光刻胶(如氧化锌)的纳米颗粒分散技术尚未突破,导致分辨率达10nm,而国际水平已实现5nm。
武汉正性光刻胶品牌技术突破加速国产替代,国产化布局赢得市场。

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 原料准备

主要成分:树脂(成膜剂,如酚醛树脂、聚酰亚胺等)、感光剂(光引发剂或光敏化合物,如重氮萘醌、光刻胶单体)、溶剂(溶解成分,如丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA))、添加剂(调节粘度、感光度、稳定性等,如表面活性剂、稳定剂)。

◦ 原料提纯:对树脂、感光剂等进行高纯度精制(纯度通常要求99.9%以上),避免杂质影响光刻精度。

 配料与混合

◦ 按配方比例精确称量各组分,在洁净环境,如万中通过搅拌机均匀混合,形成胶状溶液。

◦ 控制温度(通常20-30℃)和搅拌速度,避免气泡产生或成分分解。

 过滤与纯化

◦ 使用纳米级滤膜(孔径0.05-0.2μm)过滤,去除颗粒杂质(如金属离子、灰尘),确保胶液洁净度,避免光刻时产生缺陷。

 性能检测

◦ 物理指标:粘度、固含量、表面张力、分子量分布等,影响涂布均匀性。

◦ 化学指标:感光度、分辨率、对比度、耐蚀刻性,通过曝光实验和显影测试验证。

◦ 可靠性:存储稳定性(常温/低温保存下的性能变化)、耐温性(烘烤过程中的抗降解能力)。

 包装与储存

◦ 在惰性气体(如氮气)环境下分装至避光容器(如棕色玻璃瓶或铝罐),防止感光剂氧化或光分解。

◦ 储存条件:低温(5-10℃)、避光、干燥,部分产品需零下环境(如EUV光刻胶)。

  1. 正性光刻胶(如 YK-300)
    应用场景:用于芯片的精细图案化,如集成电路(IC)、分立器件(二极管、三极管)的制造。
    特点:高分辨率(可达亚微米级),适用于多层光刻工艺,确保芯片电路的高精度与可靠性。
  2. 负性光刻胶(如 JT-1000)
    应用场景:用于功率半导体(如 MOSFET、IGBT)的制造,以及传感器(如 MEMS)的微结构成型。
    特点:抗蚀刻能力强,适合复杂图形的转移,尤其在深宽比要求较高的工艺中表现优异。
  3. 纳米压印光刻胶(JT-2000)
    应用场景:第三代半导体(GaN、SiC)芯片、量子点器件及微流控芯片的制造。特点:耐高温(250℃)、耐酸碱,支持纳米级精度图案复制,降低芯片的制造成本。
光刻胶国产替代的主要难点有哪些?

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广东吉田半导体材料有限公司多种光刻胶产品,主要涵盖厚板、负性、正性、纳米压印及光刻胶等类别,以满足不同领域的需求。

UV 纳米压印光刻胶:JT-2000 型号,耐强酸强碱,耐高温达 250°C,长期可靠性高,粘接强度高,重量 100g。适用于需要在特殊化学和高温环境下进行纳米压印光刻的工艺,如半导体器件制造。

其他光刻胶

  • 水油光刻胶 JT-2001:属于水油两用光刻胶,具有工厂研发、可定制、使用、品质保障、性能稳定的特点,重量 1L。
  • 水油光刻胶 SR-3308:同样为水油两用光刻胶,重量 5L,具备上述通用优势,应用场景。


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吉田半导体光刻胶,45nm 制程验证,国产替代方案!西安油墨光刻胶感光胶

广东吉田半导体材料有限公司多种光刻胶产品,各有特性与优势,适用于不同领域。

厚板光刻胶 JT - 3006:具有优异的分辨率和感光度,抗深蚀刻性能良好,符合欧盟 ROHS 标准,保质期 1 年。需保存在干燥区域并密封,使用前要阅读参考技术资料。适用于厚板的光刻加工,在对精度、感光度和抗蚀刻要求高的生产场景中发挥作用,如特定的电路板制造领域。

水油光刻胶 SR - 3303:适用于光学仪器、太阳能电池等领域的光刻工艺。品质保障、性能稳定的特点,由工厂研发且支持定制,工厂直销。 西安油墨光刻胶感光胶

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