江西负性光刻胶厂家

厚板光刻胶

• 电路板制造：在制作对线路精度和抗蚀刻性能要求高的电路板时，厚板光刻胶可确保线路的精细度和稳定性，比如汽车电子、工业控制等领域的电路板，能承受复杂环境和大电流、高电压等工况。
• 功率器件制造：像绝缘栅双极晶体管（IGBT）这类功率器件，需要承受高电压和大电流，厚板光刻胶可用于其芯片制造过程中的光刻环节，保障芯片内部电路的精细布局，提高器件的性能和可靠性。

负性光刻胶

• 半导体制造：在芯片制造过程中，用于制作一些对精度要求高、图形面积较大的结构，如芯片的金属互连层、接触孔等。通过负性光刻胶的曝光和显影工艺，能实现精确的图形转移，确保芯片各部分之间的电气连接正常。
• 平板显示制造：在液晶显示器（LCD）和有机发光二极管显示器（OLED）的制造中，用于制作电极、像素等大面积图案。以 LCD 为例，负性光刻胶可帮助形成液晶层与玻璃基板之间的电极图案，控制液晶分子的排列，从而实现图像显示。

松山湖光刻胶厂家吉田，23 年经验 + 全自动化产线，支持纳米压印光刻胶定制！江西负性光刻胶厂家

光刻胶（如液晶平板显示器光刻胶）

• 液晶平板显示器制造：在液晶平板显示器（LCD）的生产过程中，光刻胶用于制作液晶盒内的各种精细图案，包括像素电极、公共电极、取向层图案等。这些图案的精度和质量直接影响液晶显示器的显示效果，如分辨率、对比度、视角等。
• 有机发光二极管显示器（OLED）制造：OLED 显示器的制造同样需要光刻胶来制作电极、像素定义层等关键结构。OLED 显示器具有自发光、响应速度快等优点，而光刻胶能保障其精细的像素结构制作，提升显示器的发光效率和显示质量 。

无锡纳米压印光刻胶国产厂家聚焦封装需求，吉田公司提供从光刻胶到配套材料的一站式服务。

广东吉田半导体材料有限公司多种光刻胶产品，主要涵盖厚板、负性、正性、纳米压印及光刻胶等类别，以满足不同领域的需求。

厚板光刻胶：JT-3001 型号，具有优异的分辨率和感光度，抗深蚀刻性能良好，符合欧盟 ROHS 标准，保质期 1 年。适用于对精度和抗蚀刻要求高的厚板光刻工艺，如特定电路板制造。

负性光刻胶

• SU-3 负性光刻胶：分辨率优异，对比度良好，曝光灵敏度高，光源适应，重量 100g。常用于对曝光精度和光源适应性要求较高的微纳加工、半导体制造等领域。
• 负性光刻胶 JT-1000：有 1L 和 100g 两种规格，具有优异的分辨率、良好的对比度和高曝光灵敏度，光源适应。主要应用于对光刻精度要求高的领域，如半导体器件制造。
• 耐腐蚀负性光刻胶 JT-NF100：重量 1L，具备耐腐蚀特性。适用于有腐蚀风险的光刻工艺，如特殊环境下的半导体加工或电路板制造。

吉田半导体 YK-300 正性光刻胶：半导体芯片制造的材料

1. 全品类覆盖
   吉田半导体产品线涵盖正性 / 负性光刻胶、纳米压印光刻胶、LCD 光刻胶、厚膜光刻胶及水性光刻胶等，覆盖芯片制造、显示面板、PCB 及微纳加工等多领域需求，技术布局全面性于多数国内厂商。
2. 关键技术突破
   纳米压印技术：JT-2000 纳米压印光刻胶耐高温达 250℃，支持纳米级精度图案复制，适用于第三代半导体（GaN/SiC）及 Mini LED 等新兴领域，技术指标接近国际先进水平。
   水性环保配方：JT-1200 水性感光胶以水为溶剂替代传统有机溶剂，低 VOC 排放，符合 RoHS 和 REACH 标准，环保性能优于同类产品。
   厚膜工艺能力：JT-3001 厚板光刻胶膜厚可控（达数十微米），满足高密度像素阵列及 MEMS 器件的制造需求。

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吉田半导体 SU-3 负性光刻胶：国产技术赋能 5G 芯片封装

广东吉田半导体材料有限公司在同行业领域中，一直处在一个不断锐意进取，不断制造创新的市场高度，多年以来致力于发展富有创新价值理念的产品标准，在广东省等地区的电工电气中始终保持良好的商业口碑，成绩让我们喜悦，但不会让我们止步，残酷的市场磨炼了我们坚强不屈的意志，和谐温馨的工作环境，富有营养的公司土壤滋养着我们不断开拓创新，勇于进取的无限潜力，吉田半导体供应携手大家一起走向共同辉煌的未来，回首过去，我们不会因为取得了一点点成绩而沾沾自喜，相反的是面对竞争越来越激烈的市场氛围，我们更要明确自己的不足，做好迎接新挑战的准备，要不畏困难，激流勇进，以一个更崭新的精神面貌迎接大家，共同走向辉煌回来！