电解抛光腐蚀,显示钢的显微组织的电解浸蚀剂及电解抛光液表
浸蚀剂名称及成分 |
使用方法 |
适用范围 |
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过硫酸铵溶液: (NH4)2S2O610克 过硫酸铵水90亳升 |
电解浸蚀。方法同铬酸水溶液的使用方法。 |
极快的显示不锈钢组织 |
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过氯酸及冰醋酸溶液: 冰醋酸 10份 过氯酸 1份 |
2分钟或以上,电压20~22伏,电流密度0.1安/厘米2,使用温度低于20。C。抛光时要时常搅溶液,在通风橱中进行,要注意温度,防止炸裂。配制溶液时,过氯酸须缓慢地加入冰醋酸中,温度低于15。C,要?搅动,以免局部温度升高。 |
适用于抛光钢和铁。 |
低倍组织热酸蚀,样品要求:检验面距切割面尺寸:热锯切割时不小于20mm;冷锯切割时不小于10mm;火焰切割时不小于25mm检验面粗糙度:热酸腐蚀不大于1.6um;冷酸腐蚀不大于0.8um试样尺寸:厚度一般20mm~30mm;纵向试样的长度一般为边长或直径的1.5倍;钢板检验面的尺寸一般为长250mm,宽为板厚;测试内容:一般疏松、中心疏松、锭型偏析、斑点状偏析、白亮带、中心偏析、冒口偏析、皮下气泡、残余缩孔、翻皮、白点、轴心晶间裂缝、内部气泡、非金属夹杂物(目视可见)及夹渣、异金属夹杂。贵州低倍组织热酸蚀腐蚀生产厂家电解抛光腐蚀,电压、电流随时间变化的曲线。
晶间腐蚀是什么?以晶间腐蚀为起源,在应力和介质的共同作用下,可使不锈钢、铝合金等诱发晶间应力腐蚀,所以晶间腐蚀有时是应力腐蚀的先导,在通常腐蚀条件下,钝化合金组织中的晶界活性不大,但当它具有晶间腐蚀的敏感性时,晶间活性很大,即晶格粒与晶界之间存在着一定的电位差,这主要是合金在受热不当时,组织发生改变而引起的。所以晶间腐蚀是一种由组织电化学不均匀性引起的局部腐蚀蚀。此外晶界存在杂质时,在一定介质也也会引起晶间腐蚀。
低倍组织热腐蚀,故障排除
故障问题 |
故障原因 |
电源开关按下不通电 |
断路器跳闸或者电源按钮开关损坏 |
开机温度显示326.7 |
温度传感器接触不良或者损坏,需要更换传感器。 |
开机温度显示0, |
系统初始化不成功,进入隐藏控件进行初始化操作。 |
加热温度不变化 |
加热器损坏,或者导线接触不良。 |
晶间腐蚀操作主意事项,冷水机设置操作说明:温度设置:按set件会出现设置的温度值,按向上下键进行增加或减少就能设定运行的温度了,然后按ret键保存。不保存修改无效。温度下限设置:同时按住set和向上键,显示0;按向上键将0改为6,在按set键出现F0;在按向上键将F0改F9在按set键就会出现默认设置的最低温度;在按向上下键修改温度值;修改完成后按ret键保存即可,不保存无。重要提示:控制装置不得放置在通风柜内部,因为使用酸液和水雾可能导致敏感的电子设备受损。放在外部也得与酸蚀槽保持一定距离,避免操作时有酸液飞溅到控制器上。电解抛光腐蚀,电信号低纹波,稳定性高。天津金属抛光腐蚀
电解抛光腐蚀,电源过压、过热以及市电输入过欠压保护。天津金属抛光腐蚀
电解抛光腐蚀原理,关于电解抛光原理的争论很多,被公认的主要为薄膜理论。薄膜理论解释的电解抛光过程是:电解抛光时,靠近试样阳极表面的电解液,在试样上随着表面的凸凹不平形成了一层薄厚不均匀的黏性薄膜,这种薄膜在工件的凸起处较薄,凹处较厚,此薄膜具有很高的电阻,因凸起处薄膜薄而电阻小,电流密度高而溶解快;凹处薄膜厚而电阻大,电流密度低而溶解慢,由于溶解速度的不同,凹凸不断变化,粗糙表面逐渐被平整,然后形成光亮平滑的抛光面。电解抛光过程的关键是形成稳定的薄膜,而薄膜的稳定与抛光材料的性质、电解液的种类、抛光时的电压大小和电流密度都密切相关。根据实验得出的电压和电流的关系曲线称为电解抛光特性曲线,根据它可以决定合适的电解抛光规范。天津金属抛光腐蚀
晶间腐蚀试验 (intergranular corrosion test),在特定介质条件下检验金属材料晶间腐蚀敏感性的加速金属腐蚀试验方法,目的是为了了解材料的化学成分、热处理和加工工艺是否合理。其原理是采用可使金属的腐蚀电位处在恒电位阳极极化曲线特定区间的各种试验溶液,然后利用金属的晶粒和晶界在该电位区间腐蚀电流的明显的差异加速显示晶间腐蚀,不锈钢、铝合金等的晶间腐蚀试验方法在许多国家均已标准化。各标准对试验细节均有详细规定。晶间腐蚀,有漏电和短路保护。宁波低倍加热腐蚀经济实用电解抛光腐蚀原理,关于电解抛光原理的争论很多,被公认的主要为薄膜理论。薄膜理论解释的电解抛光过程是:电解抛光时,靠...