企业商机
金相磨抛机基本参数
  • 品牌
  • 无锡欧驰
  • 型号
  • PC-20
  • 尺寸
  • 720x685x320(mm)
  • 重量
  • 50Kg
  • 产地
  • 浙江-无锡
  • 可售卖地
  • 中国
  • 是否定制
  • 材质
  • 外壳塑料
  • 配送方式
  • 物流/快递
金相磨抛机企业商机

金相磨抛机装入所需要制备的样品,可装入1-6个(根据试样直径不同所夹持的数量会有变化,根据实际确定好夹持盘规格)。调整好冷却管角度及水流量,确保试样得到充分冷却,冷却水还会冲走磨盘上磨削的材料及磨料。检查一下参数是否合理,可参考如下建议: 当制备单个试样时,不要使用粗磨料进行粗磨。一般无需这么做,使用粗磨料可能导致试样表面不平整。如果由于某些原因需要使用粗磨料进行研磨,可以采纳如下建议以改善平整度。试样的高度应该在 8 – 35 mm 之间,且不能超过试样直径的 0.7倍。例如:直径 30 mm 试样的高度不应该超过 30 x 0.7 = 21 mm。尽可能使用细磨料。金相磨抛机(全自动)的每个工序完成自动停机,方便更换抛光组织物。北京双盘手动金相磨抛机公司

金相磨抛机

金相磨抛机(双盘自动)PC-2000产品特点:7寸触摸屏操作控制;压力可通过触摸屏设定,精确力度控制;采用西门子变频器和日本SMC气动元件;通过编程实现连续制样,每个工序完成自动停机,方便更换抛光组织物,同时可以暂停查看制样效果,每部工序计时,能精确的制样和节省制样时间。同时也可以通过手动操作参数制样,方便制样多样性;一次可制样1-6个;自动锁紧功能7、LED灯照明;锥度磨盘系统,更换清理更容易;大口径的排水管道,解决易堵的问题;水流量可调。北京双盘手动金相磨抛机公司金相磨抛机通过不同的研磨抛光介质来实现用户的粗磨、精磨、粗抛、精抛光制样过程。

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金相磨抛机故障排除:急停按键按下,当释放紧急停止按钮后该信息就会消失;锁限位故障,通讯超时、限位开关损坏或者线路故障断开,关机重启,检查开关或者线路;磨头不转动,通讯超时或者电机过载,关机重启,降低力度并继续制备进程;磨盘不转动,通讯超时或者电机过热,关机重启或者等待电机降温在开机,降低力度并继续制备进程;磨头磨盘电机不通知,通讯故障,关闭电源后重启;磨盘电机无法停止,数据库参数缺损行参数,在按启动键后再按停止;磨头上升后无法下降,通讯故障或者断气,关机重启,检查气源气压;加载气缸不伸出,通讯故障或者气压不够,停止制备启动,再次启动制备,检查气源。

金相磨抛机(全自动)日常维护:用湿布清洁所有可接触到的表面;经常检查碗状衬垫;如已积攒了很多磨屑,则清洁或更换;清理转换盘上的磨料及残渣避免腐蚀转换盘系统;防粘盘每次使用完成后应取下晾干。每周维护:用湿软布和普通家用清洁剂清洁喷漆表面。(不要使用干布擦拭,表面会产生划痕,油脂可以用乙醇或异丙醇去除。不要用苯或类似的溶剂。)定期清理排水管道保持排水畅通。定期清理槽里的污物,不能使用坚硬物体,避免损坏水槽。清理水槽时应注意不能将水及污物罐如槽中心的孔内,会损坏转动装置。按下放泄阀释放以使水/油过滤器清空。用湿软布和普通家用防静电清洁剂清洁触摸屏。 金相磨抛机(全自动)通过编程实现连续制样,每个工序完成自动停机,方便更换抛光组织物。

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金相磨抛机选择磨盘更换耗材:手动按上升控件,磨头会往上移动,我们就可以在磨盘上操作更换磨料耗材,该设备配有快速转换系统,可快速进行制样耗材得到快速切换(但必须使用背部带胶的耗材或者金刚石研磨盘。此方式为常用方式)。其次手动按下下降控件(下降之前注意磨头所对下方不能太靠近边缘,避免损坏设备外壳)磨头会下降靠近磨盘,调整好磨头夹持盘位置,一般靠边缘,可以充分的利用好耗材,还可以更好的保证冷却液及抛光液能接触到样品,保证制样质量。(试样夹具座/试样移动盘的位置应该令试样离制备盘边缘 3 – 4 mm 的位置) 金相磨抛机(全自动)磨头电机功率:120W。北京双盘手动金相磨抛机公司

金相磨抛机更重要的是尽可能减少表层损伤,达到理想的磨抛效果。北京双盘手动金相磨抛机公司

金相磨抛机:手工磨光主要使用干砂纸,机械磨光要求使用水砂纸。这两种砂纸的主要区别在纸基和粘结剂上。水砂纸自然要求纸基=粘结剂都能防水。它们的磨料基本相同,主要有人造刚玉、碳化硅及氧化铝。按照磨料颗粒粗细尺寸砂纸分为各种规格,分别编号。磨料尺寸一般用“粒度”单位。对用筛选法获得的磨粒来说,粒度号是用1英寸长度上有多少个孔眼的筛网来确定的。例如10号粒度是指1英寸长度上有10个孔眼的筛网;如果磨粒的粒度以它的实际尺寸来表示,就用“W”单位,这种磨粒也称为微粉。如28微米的微粉其粒度号为W28。北京双盘手动金相磨抛机公司

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金相磨抛机,平整度高:通过金相磨抛机的研磨和抛光,能够使金相样品表面达到很高的平整度。在研磨过程中,利用研磨盘的旋转运动,配合合适的研磨耗材,可以均匀地去除样品表面的材料,消除表面的不平整。在抛光阶段,使用平整的抛光盘和抛光布,能进一步提高样品表面的平整度,使得在金相显微镜下观察时,能够清晰地看到整个样品表面的微观结构,不会因为表面不平而出现局部模糊的情况。光洁度好:可以使样品表面获得优异的光洁度,达到镜面效果。在抛光时,磨抛机带动抛光布和抛光液对样品表面进行精细处理,抛光液中的微小磨粒能够有效去除表面的细微划痕和瑕疵。这种高质量的光洁度对于观察金相组织中的晶界、相分布等细节非常关键,能够提供...

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