杭州金相抛光醋酸布磨抛耗材公司

磨抛耗材，如何使用金相砂纸进行手工研磨抛光金相样品，样品清洁：为了确保样品在下一道金相砂纸研磨抛光中不受上一道金相砂纸残留的较粗研磨颗粒的影响，需要对样品及磨盘进行清洗。样品的清洗，将样品先在清洁剂水溶液中清洗，随后在流动的温水中冲洗，然后再用酒精进行冲洗，然后用温暖的流动的空气烘干。更换下一道金相砂纸前需要对磨盘及粘有金相砂纸的铁盘进行冲洗，直接使用喷淋装置用洁净的水冲洗即可，带金相砂纸的铁盘彻底冲洗后，立于沥水支架上，让其自然风干。然后再将下一道带有金相砂纸的铁盘装卡在磨盘上，进行下一道工序的研磨抛光。依次类推，直到研磨抛光全部完成。磨抛耗材，金相砂纸静电植砂的工艺具有磨粒分布均匀、磨削锋利、经久耐用的特点。杭州金相抛光醋酸布磨抛耗材公司

磨抛耗材，二氧化硅抛光液(VK-SP50W)使用范围：可用于微晶玻璃的表面抛光加工中；用于硅片的粗抛和精抛以及IC加工过程，适用于大规模集成电路多层化薄膜的平坦化加工；用于晶圆的后道CMP清洗等半导体器件的加工过程、平面显示器、多晶化模组、微电机系统、光导摄像管等的加工过程；普遍用于CMP化学机械抛光，如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、硬盘盘片、宝石、大理石等纳米级及亚纳米级抛光加工；本产品可以作为一种添加剂，也可应用于水性高耐候石材保护液、水性胶粘剂与高耐候外墙涂料的添加剂等。杭州金相抛光醋酸布磨抛耗材公司磨抛材料，多晶金刚石悬浮液可以为后续精密抛光加工提供了良好的条件。

磨抛耗材，抛光时试样磨面应平稳轻压于抛光盘中心附近，沿径向缓慢往复移动，并逆抛光盘旋转方向轻微转动，以防磨面产生曳尾。一般抛光时间在2~5min内即可消除磨痕，得到光亮无痕的镜面，否则应重新细磨。压力过大，时间过长，只能加厚金属扰乱层，使硬质相出现浮雕。抛光结束后立即冲洗试样，用酒精擦拭，热风吹干，置于100x金相显微镜下观察，此时能看到非金属夹杂物或石黑，而且不能有曳尾现象，无划痕。对于不需要金相摄影的试样，允许个别细微划痕残存。

磨抛耗材，氧化铝抛光粉，特点如下：具有活性，无毒无味，不溶于水和难溶于酸碱。粒度均匀、化学性能稳定，经特殊工艺加工处理，具有良好的研磨抛光性能，以满足各种材料抛光用途的需求。产品粒度比较均匀，具备硬度高，磨削力强，抛光效果快，效率高，光度亮等特点。粒度分布范围窄，研磨效率高，抛光效果好，研磨效率远远高于二氧化硅等软质磨料，表面光洁度优于白刚玉的抛光效果，切削能力强、出光快、能抛出均匀而明亮的光泽。磨抛耗材，金相抛光润滑冷却液，具有极强的冷却、润滑、防锈性能。

磨抛耗材，金刚石喷雾抛光剂如何选型：3D打印材料3-6µm，适合抛光布类型：真丝长绒密植布料，绒面松软厚实。0.5-3µm，无绒毛100%全真丝材质，精纺超薄面料。0.05-0.5µm无绒毛多孔橡胶材质，空隙率高，连通孔隙可储存大量的抛光液，耐化学腐蚀，适合所有材料氧化精抛。

EBSD3-6µm，适合抛光布类型：真丝长绒密植布料，绒面松软厚实。0.5-3µm，无绒毛100%全真丝材质，精纺超薄面料。0.05-0.5µm无绒毛多孔橡胶材质，空隙率高，连通孔隙可储存大量的抛光液，耐化学腐蚀，适合所有材料氧化精抛。 磨抛材料，二氧化硅抛光液，用于多种材料纳米级的硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等抛光加工。杭州金相抛光醋酸布磨抛耗材公司

磨抛材料，金刚石悬浮研磨抛光液保证了样品表面的光洁度和平整度。杭州金相抛光醋酸布磨抛耗材公司

磨抛耗材，换砂纸时，确认磨痕是否磨掉；确保研磨面为同一平面，不可磨成锥面或多面。自动研磨将试样对称平均放置在样品夹具中。将样品夹具的边缘和研磨盘的边缘相切。自动研磨时使冷却水流在距离底盘中心1/3处。当金刚石研磨盘磨损至基体金属时应当更换。自动研磨时的推荐压力一般为4-6 N/c㎡ , 针对不同直径，压力如下表。易碎、易脱落、易分层试样（硅片、陶瓷涂层、氧化物涂层、金属粉末等）从尽可能细的砂纸开始研磨；保证涂层始终朝向基体受压；自动研磨使用较小的力，同向旋转；杭州金相抛光醋酸布磨抛耗材公司