上海中性淬火

低压真空渗碳的优势很明显，但是缺点，肯定也是有的。1）设备成本相对较高。2）小件的装炉量和多用炉相比，会少一点。真空渗碳装炉时，特别是小件渗碳，层与层之间的间隙要有50mm左右。真空淬火：1）真空淬火与回火工艺：830~850℃×3min/mm预热，1080~1200℃×1~2min/mm加热后，气淬油冷；540~580℃×1~2h真空回火。2）真空脉冲氮碳共渗工艺：共渗剂成分（体积分数）：50%丙烷＋50%氨气，其工艺曲线见图6。真空炉在中小型企业及专业工模具工厂使用得比较普遍。特别是私人企业在刀具、工模具及电动工具等工件的淬火上采用真空炉的比率也在逐渐增多。为满足各种零件千差万别的技术要求，发展了各种淬火工艺。上海中性淬火

低压真空渗碳设备，真空渗碳也是渗碳的一种，只是设备的表现形式不同，当然，工艺也有很大不同。真空渗碳按淬火方式不同，分真空渗碳油淬炉和真空渗碳气淬炉。从外观上说真空渗碳油淬炉和真空油淬炉相似，真空渗碳气淬炉和真空高压气淬炉相似。在增加渗碳功能以后，多了供气系统，气体流量控制系统，渗碳压力控制系统以及对加热系统的更改，这些系统的增加和更改，大部分是在设备内部，所以真空渗碳炉和真空炉的外形没有太大的区别。真空渗碳炉的规格主要有644、755、966、1077、1288，以及更大的1500*1500*800mm等标准型号，对应装炉量150kg，300 kg，500 kg，750 kg，1000 kg，4000 kg。基本上以双室油淬炉为基础上都可以作为真空渗碳炉的生产平台。低压真空渗碳是在低于一个大气压条件下的气体渗碳。渗碳的压力一般在200-2000pa，实际应用较多的是200-500pa。浙江单介质中性淬火厂商真空淬火应用于各种时效合金、硬磁合金的固溶处理。

气相沉积，气相沉积按形成的基本原理，分为物理的气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）。PVD分为真空蒸镀、溅射镀和离子镀。离子镀是蒸镀和溅射镀相结合的技术，离子镀膜具有粘着力强、均镀能力好、被镀基体材料和镀层材料可以普遍搭配等优点，因而获得较普遍的应用。近年来，多弧离子镀受到人们的重视。目前，在模具上应用较多的是离子镀TiN，这种膜不仅硬度高，而且膜的韧性好、结合力强、耐高温。在TiN基础上发展起来的多元膜，如（TiAl）N、（TiCr）N等，性能优于TiN，是一类更有前途的新型薄膜。CVD是用化学方法使反应气体在基础材料表面发生化学反应形成覆盖层（TiC、TiN）的方法。CVD有多种方法。

真空淬火实际上就是一道淬火工艺，只是区别于传统的零件在加热过程中与空气或盐浴等介质接触，从而出现氧化现象和较大的形变现象，真空淬火是将零件放置于真空炉中抽取真空进行加热，因此氧化和形变均较小，这就是真空淬火较大的优势，表面淬火是将刚件的表面层淬透到一定的深度，而心部分仍保持未淬火状态的一种局部淬火的方法。表面淬火时通过快速加热，使刚件表面很快到淬火的温度，在热量来不及穿到工件心部就立即冷却，实现局部淬火。从外观上说真空渗碳油淬炉和真空油淬炉相似，真空渗碳气淬炉和真空高压气淬炉相似。

可以减少热处理后的机加工余量，真空热处理因为没有氧化脱碳现象，畸变很少且清洁光亮，所以普遍用于GCr15、W6Mo5Cr4V2、27SiMnMoVA油泵油嘴偶件的真空淬火和真空渗碳，这样可以避免用盐浴炉造成偶件内孔有时因残盐清冼不干净或者用保护气氛造成表面出现黑色组织（脱碳）现象，对于27SiMnMoVA渗碳钢的针阀体来说，它的0.5～0.9mm渗碳层用真空渗碳能得到保证，而用可控气氛炉渗碳较难得到保证。对于柱塞泵等精密液压件来说，用真空淬火可以减少畸变，提高耐磨性，确保工件质量稳定。油泵油嘴偶件及柱塞泵液压件应用真空技术淬火已经几十年了，在提高产品质量上得到了普遍的认可。真空高压气冷淬火的用途是材料的淬火和回火，不锈钢和特殊合金的固溶、时效，离子渗碳和碳氮共渗。江苏风冷中性淬火市价

真空渗碳表面质量好： 真空渗碳表面不氧化、不脱碳，可保持金属本色。上海中性淬火

真空渗碳工艺参数设定，低压真空渗碳需设定的工艺参数有工艺方式、升温速率、保温温度、渗碳温度、渗碳压力、气体流量、气体压力、淬火温度、淬火方式、淬火时间等诸多数据。渗碳温度由材料决定，主要避免过热。气体流量由装炉工件表面积决定，表面积越大，气体流量要适量增加，渗碳压力由工件材料，工件形状等决定，供气压力一般在0.2mpa，渗碳时间由渗碳温度，渗层深度决定。渗碳质量检测，按渗碳的质量检测就可以。主要是表面硬度，心部硬度，硬度梯度，金相组织内，氧化等标准。上海中性淬火