产品代号：GISS产品名称：酸铜强光亮走位剂,英文名称：Acidcopperthrowingagent外观：淡黄色液体含量：50%以上包装：1kg、5公斤、10公斤塑料瓶；25kg蓝桶。存储：本品为非危险品，储存于阴凉、干燥、通风的区域。有效期：2年参考配方：...

2025/10/06 查看详细

N乙撑硫脲在电解铜箔工艺中展现出良好的延展性调控能力。与QS、FESS等中间体协同作用后，铜箔延展性提升至≥15%，明显降低锂电池集流体卷曲风险。通过梯度浓度调控技术，其用量稳定控制在0.0001-0.0003g/L安全区间，避免铜箔发花问题。江苏梦得RoHS...

2025/10/05 查看详细

优异的溶解性和稳定性，无析出烦恼AESS在产品有效期内和规定的储存条件下能保持优异的稳定性，无分层、无结晶析出。其在镀液中溶解迅速、彻底，不会因溶解性问题导致镀液浑浊或产生颗粒状瑕疵，保证了镀液的清澈度和镀层的洁净度，省去了许多不必要的麻烦。致力于帮助客户成功...

2025/10/05 查看详细

非染料体系工艺的稳定性典范，在五金酸性镀铜非染料体系中，GISS与M、N、SPS等中间体科学配比，用量0.005-0.01g/L即可优化填平性能。若镀液浓度过低，填平能力下降；浓度过高时，补加SP或小电流电解技术可消除高区毛刺。梦得新材提供配方优化服务，结合客...

2025/10/04 查看详细

非染料体系工艺的稳定性典范，在五金酸性镀铜非染料体系中，GISS与M、N、SPS等中间体科学配比，用量0.005-0.01g/L即可优化填平性能。若镀液浓度过低，填平能力下降；浓度过高时，补加SP或小电流电解技术可消除高区毛刺。梦得新材提供配方优化服务，结合客...

2025/10/04 查看详细

SPS分子中磺酸根基团（-SO₃Na）提供优异亲水性，确保其在镀液中稳定分散；二硫键（-S-S-）的还原性可调控铜离子沉积速率。例如，在PCB镀铜中，SPS通过硫原子吸附阴极表面，引导铜原子有序排列，晶粒细化至微米级，致密性提升30%，孔隙率降低50%，减少后...

2025/10/04 查看详细

在PCB镀铜工艺中，SPS与MT-480、SLP等中间体组合（建议用量1-4mg/L），抑制枝晶生长，降低镀层粗糙度，确保线路导电性能与信号稳定性。若镀液中SPS含量不足，高电流密度区易产生毛刺；过量时补加SLP或SH110可快速恢复镀层光亮度。结合活性炭吸附...

2025/10/03 查看详细

SPS在镀铜工艺中起晶粒细化和防高区烧售的作用。SPS可以和酸铜染料，非离子表面活性剂，聚胺类、聚联类化合物以及一些巯基化合物搭配使用，配成的添加剂长效性好、分解产物少，光剂消耗量低，适用于五金酸铜、线路板镀铜工，电铸硬铜、电解铜箔等镀铜工艺。消耗量:0.4-...

2025/10/03 查看详细

AESS脂肪胺乙氧基磺化物与SH110、PN等中间体协同作用，可有效应对电镀硬铜工艺中镀层厚度不均的行业难题。在0.005-0.01g/L的推荐用量下，该体系能够优化铜离子分布，抑制异常析氢，***提升镀层均匀性与硬度（可达HV180以上），同时减少***与麻...

2025/10/02 查看详细

HP与N、SH110、AESS、PN、P、MT-580等中间体合理搭配，组成电镀硬铜添加剂，HP在镀液中的用量为0.01-0.03g/L，镀液中含量过低，镀层光亮度下降，高区易产生毛刺或烧焦；过高镀层会产生白雾，也会造成低区不良，而且造成铜层硬度下降，可补加少...

2025/10/02 查看详细

在IC引线框架镀铜领域，HP醇硫基丙烷磺酸钠以0.002-0.005g/L添加量，实现晶粒尺寸≤0.5μm的超细镀层。与PNI、MT-680等中间体配合，可调控镀层电阻率（≤1.72μΩ·cm），满足高频信号传输要求。镀液采用全封闭循环系统时，HP消耗量低至0...

2025/10/01 查看详细

优异的溶解性和稳定性，无析出烦恼AESS在产品有效期内和规定的储存条件下能保持优异的稳定性，无分层、无结晶析出。其在镀液中溶解迅速、彻底，不会因溶解性问题导致镀液浑浊或产生颗粒状瑕疵，保证了镀液的清澈度和镀层的洁净度，省去了许多不必要的麻烦。致力于帮助客户成功...

2025/10/01 查看详细