静态接触角测量是常见的方法之一。它通过将液滴缓慢滴落在固体表面上，然后使用高精度相机或显微镜拍摄图像，并利用图像处理软件分析液滴边界与固体表面的接触角。这种方法通常用于测量固体表面性质的静态接触角，例如润湿性或液体在固体上的吸附能力。动态接触角测量是在液滴与固体表面之间施加外力的情况下进行的。这些外力可以是施加压力、改变液滴体积或倾斜固体... 【查看详情】

接触角测量仪由五大部分组成：控制系统、样品平台、滴液系统、视频采集系统和分析系统。接触角测量仪产品原理：通过光学外观投影的原理，对液体与固体样品的轮廓进行分析。接触角测量仪四大分析功能：接触角：主要针对气液固三相之间的能量测量，测量方式：座滴法、插板法、纤维测量法等；表界面张力：主要针对气液之间的能量测量，测量方式：悬滴法。测量固体表面的... 【查看详情】

接触角分为静态接触角和动态接触角。静态接触角是指液体与固体表面相接触时，所形成的接触角，不随时间变化。接触角测量仪可以通过将固体样品放置在水滴上并记录其与固体表面接触时的水滴形状来测量静态接触角。该仪器会自动计算出水滴与固体表面之间的夹角，从而得到静态接触角的值。该设备功能齐全、拓展性能非常高的接触角产品，具有出色的静态、动态接触角分析功... 【查看详情】

接触角分为静态接触角和动态接触角。静态接触角是指液体与固体表面相接触时，所形成的接触角，不随时间变化。接触角测量仪可以通过将固体样品放置在水滴上并记录其与固体表面接触时的水滴形状来测量静态接触角。该仪器会自动计算出水滴与固体表面之间的夹角，从而得到静态接触角的值。该设备功能齐全、拓展性能非常高的接触角产品，具有出色的静态、动态接触角分析功... 【查看详情】

倾斜型接触角测量仪，作为一种先进的表面分析仪器，其基本原理在于通过改变固体表面的倾斜角度，来测量液体与固体表面之间的接触角。这种测量方式相较于传统的静态接触角测量，更能模拟实际应用中液体在固体表面上的动态行为。倾斜型接触角测量仪的特点主要体现在以下几个方面：首先，它具有高度的灵活性，可以通过调节倾斜角度来模拟不同的应用场景；其次，由于能够... 【查看详情】

碳化硅器件制造环节主要包括“光刻、清洗、掺杂、蚀刻、成膜、减薄”等工艺。为了实现碳化硅器件耐高压、大电流功能，离子注入工艺成为碳化硅掺杂的重要步骤，离子注入是一种向半导体材料加入一定数量和种类的杂质，以改变其电学性能的方法，可以精确控制掺入的杂质数量和分布情况。然而离子注入后，碳化硅材料原本的晶格结构被破坏而变成非晶态，这种晶格损伤必须在... 【查看详情】

快速退火炉是利用卤素红外灯做为热源，通过极快的升温速率，将晶圆或者材料快速的加热到300℃-1200℃，从而消除晶圆或者材料内部的一些缺陷，改善产品性能。快速退火炉采用先进的微电脑控制系统，采用PID闭环控制温度，可以达到极高的控温精度和温度均匀性，并且可配置真空腔体，也可根据用户工艺需求配置多路气体。快速退火炉（芯片热处理设备）广泛应用... 【查看详情】

接触角测量仪由五大部分组成：控制系统、样品平台、滴液系统、视频采集系统和分析系统。接触角测量仪产品原理：通过光学外观投影的原理，对液体与固体样品的轮廓进行分析。接触角测量仪四大分析功能：接触角：主要针对气液固三相之间的能量测量，测量方式：座滴法、插板法、纤维测量法等；表界面张力：主要针对气液之间的能量测量，测量方式：悬滴法。测量固体表面的... 【查看详情】

RTP半导体晶圆快速退火炉的一些特点和功能：精确的温度控制：这些设备通常具有高度精确的温度控制系统，以确保在整个退火过程中温度保持在稳定的范围内。这对于确保材料处理的一致性和质量至关重要。一旦晶圆达到目标温度，RTP退火炉将维持这个温度一段时间，以确保材料中的所有部分都受到均匀加热。在此阶段，可能进行一些特定的处理，如去除或修复缺陷、晶体... 【查看详情】

接触角是指液体与固体表面接触时所形成的夹角，它直接影响着表面润湿性以及液体在固体表面上的展开和附着情况。1.接触角测量仪的原理及工作方式接触角测量仪通常采用光学或图像处理的方法来测量接触角。在实验中，将待测液体滴于固体表面上，通过仪器记录液体与固体边界所形成的接触角。通过测量和分析液滴在固体表面上的形态和位置，计算出接触角的大小，从而得知... 【查看详情】

快速退火炉（又称"扩散炉"）是利用卤素红外灯做为热源，通过极快的升温速率，将晶圆或者材料快速的加热到300℃-1200℃，从而消除晶圆或者材料内部的一些缺陷，改善产品性能。快速退火炉采用先进的微电脑控制系统，采用PID闭环控制温度，可以达到极高的控温精度和温度均匀性，并且可配置真空腔体，也可根据用户工艺需求配置多路气体。应用的工艺：√离子... 【查看详情】

RTP（Rapid Thermal Processing）快速退火炉是一种用于半导体器件制造和材料研究的设备，其工作原理是通过快速升温和降温来处理材料，以改变其性质或结构。RTP退火炉通常用于离子注入退火、ITO镀膜后快速退火、氧化物和氮化物生长等应用。RTP快速退火炉的技术主要包括反应腔室（包括热源）设计、温度测量技术和温度控制技术，其... 【查看详情】