铜通孔)连接至上面的互连层。在一些实施例中，底电极通孔和顶电极通孔可以包括金属，诸如氮化钛(tin)、氮化钽(tan)、钛(ti)、钽(ta)等。在一些实施例中，互连层b从调节mtj器件正上方连续延伸至调节mtj器件正上方。调节mtj器件、调节mtj器件和工作mtj器件分别包括由介电遂穿阻挡层分隔开的自由层和固定层。自由层具有被配置为响应于电信号(例如，电流)而改变的磁矩。固定层具有固定的磁取向，该磁取向被配置为用作参考磁方向和/或减少对自由层的磁冲击。在一些实施例中，mtj中的一个或多个可以包括附加层。例如，在一些实施例中。mtj中的一个或多个可以包括位于底电极通孔和固定层之间的反铁...

在所述系统板上的多个印刷电路板插座，多个液体冷却管，每个所述液体冷却管邻接于所述印刷电路板插座中的一个印刷电路板插座地耦联至所述系统板，连接至所述印刷电路板插座的多个集成电路模块，和多个散热器，每个所述散热器与所述集成电路模块中的一个集成电路模块热耦联；以及将所述印刷电路装配件彼此相对地布置，使得所述两个印刷电路装配件的集成电路模块彼此交错，并且所述印刷电路装配件中的每个印刷电路装配件的散热器的顶表面与另一个印刷电路装配件的液体冷却管热耦联。附图说明参考下列附图，根据一个或多个不同实施例详细描述了本公开。附图出于说明的目的提供，并且描绘典型或示例的实施例。图是系统的关系图，在该系统中可...

满足短联结线路要求，满足佳导热要求。上层基板可选的可以只有一层金属层，此金属层通过联结pad与元件联结。上层基板可选的可以只有一层金属层，此金属层直接暴露在外，加强导热。上层基板可选的可以有上下两层金属层，内层金属层通过联结pad与元件联结，外层金属层直接暴露在外，加强导热。上层基板可选的可以有多层金属层，除了上下两层金属层的内层金属层通过联接pad与元件联结，外层金属层直接暴露在外，加强导热以外，上层基板内部还有一层或者多层金属层，并通过开孔沉金，以完成复杂的集成电路互联。下层基板可选的一定有一层金属层，此金属层上的联结pad就是此集成电路的联结pad，留待pcb应用。下层基板可选的...

在所述互连层正上方形成多个mtj器件，其中，所述多个mtj器件包括工作mtj器件和一个或多个调节mtj器件，所述一个或多个调节mtj器件被配置为选择性地控制流至所述工作mtj器件的电流；以及在所述多个mtj器件上方形成互连层，其中，所述互连层和所述互连层中的一个或两个限定位线和一条或多条字线。附图说明当结合附图进行阅读时，从以下详细描述可佳理解的各个方面。应该指出，根据工业中的标准实践，各个部件未按比例绘制。实际上，为了清楚的讨论，各个部件的尺寸可以任意地增大或减小。出了具有调节访问装置的存储器电路的一些实施例的示意图，该调节访问装置被配置为选择性地对操作磁隧道结(mtj)器件提供访问...

在多个底电极通孔正上方形成多个mtj器件。多个mtj器件包括工作mtj器件和一个或多个调节mtj器件。出了对应于步骤的一些实施例的截面图。在步骤中，在多个mtj器件正上方形成多个顶电极通孔。出了对应于步骤的一些实施例的截面图。在步骤中，在多个顶电极通孔上方形成具有多个互连结构的互连层。多个互连结构限定位线和一条或多条字线。出了对应于步骤的一些实施例的截面图。步骤至在衬底上方形成存储单元。在一些实施例中，可以重复步骤至(如步骤所示)以在存储单元上方形成存储单元。出了对应于步骤的一些实施例的截面图。虽然方法描述了包括具有调节访问装置(包括mtj器件)的存储单元(例如。mram单元)的方法存...

所述冷却管中的每个冷却管具有在该冷却管的与所述系统板相对的一侧上粘附至所述冷却管的热接口材料层；以及多个集成电路模块，每个所述集成电路模块包括：印刷电路板，所述印刷电路板具有布置在所述印刷电路板插座中的一个印刷电路板插座中的连接侧；安装在所述印刷电路板上的一个或多个集成电路，第二热接口材料层。深圳市美信美科技有限公司于2020年04月17日成立。公司经营范围包括：一般经营项目是：电子产品及其配件的技术开发与销售；国内贸易等。本公司主营推广销售AD（亚德诺）,LINEAR（凌特）以及TI、MAXIM、NXP等国际有名品牌集成电路。产品广泛应用于：汽车、通信、消费电子、工业控制、医疗器械、...

满足短联结线路要求，满足佳导热要求。上层基板可选的可以只有一层金属层，此金属层通过联结pad与元件联结。上层基板可选的可以只有一层金属层，此金属层直接暴露在外，加强导热。上层基板可选的可以有上下两层金属层，内层金属层通过联结pad与元件联结，外层金属层直接暴露在外，加强导热。上层基板可选的可以有多层金属层，除了上下两层金属层的内层金属层通过联接pad与元件联结，外层金属层直接暴露在外，加强导热以外，上层基板内部还有一层或者多层金属层，并通过开孔沉金，以完成复杂的集成电路互联。下层基板可选的一定有一层金属层，此金属层上的联结pad就是此集成电路的联结pad，留待pcb应用。下层基板可选的...

调节mtj器件的尺寸赋予调节mtj器件更大的切换电流，这可以允许更大的电流。在一些实施例中，工作mtj器件具有与尺寸和尺寸不同的第三尺寸(例如，第三宽度w)。图a至图b示出了包括存储器电路的集成芯片的一些额外实施例，存储器电路具有被配置为选择性地对工作mtj器件提供访问的调节访问装置。图a示出了具有以行和列布置的多个存储单元a,至c,的存储器电路的示意图。多个存储单元a,至c,分别包括被配置为存储数据的工作mtj器件和被配置为选择性地对工作mtj器件提供访问的调节访问装置。调节访问装置包括连接在字线wlx(x＝,,)和偏置电压线bvly(y＝,。)之间的调节mtj器件。工作mtj器件连...

以在选择和未选择的单元之间提供隔离。a的示意图所示，写入操作的步骤通过将数据状态写入存储器阵列的行中的存储单元a,和第三存储单元a,内的工作mtj器件来实施。通过将非零偏置电压v(例如，v)施加至字线wl和wl，将非零偏置电压v(例如，v)施加至字线wl，将第三非零偏置电压v(例如，v)施加至位线bl和bl，并且将第四非零偏置电压v(例如，v)施加至位线bl来实施写入操作的步骤。非零偏置电压v(例如，v)和第三非零偏置电压v(例如，v)之间的差异使得电流i流过存储单元a,和第三存储单元a,内的调节mtj器件。电流i小于切换电流isw，使得存储单元a,和第三存储单元a。内的调节mtj器件...

中间填充层中可能还包含其他的中间基板层，元件被上下基板夹在中间填充层之中，与上下基板直接联结或者与中间填充层中的其他中间基板层直接联结。上基板，下基板，元件，中间基板通过焊接的方法电气联结和物理联结。依据本申请另一方面通过本集成电路封装方法封装的集成电路有明显的分层结构，上下两层基板层，中间的元件层，中间基板层，元件层或者中间基板层还被中间的填充层所包裹，填充层使用填充材料加强元件以及上下层的基板的固定，保证元件热的导出，电的绝缘，以及整个集成电路的结构的稳定性。上下两层的基板是分层的，中间基板层也是分层的。设计好的金属层通过联结pad完成集成电路的互联，满足大电流互联要求。深圳市美信...

调节mtj器件的尺寸赋予调节mtj器件更大的切换电流，这可以允许更大的电流。在一些实施例中，工作mtj器件具有与尺寸和尺寸不同的第三尺寸(例如，第三宽度w)。图a至图b示出了包括存储器电路的集成芯片的一些额外实施例，存储器电路具有被配置为选择性地对工作mtj器件提供访问的调节访问装置。图a示出了具有以行和列布置的多个存储单元a,至c,的存储器电路的示意图。多个存储单元a,至c,分别包括被配置为存储数据的工作mtj器件和被配置为选择性地对工作mtj器件提供访问的调节访问装置。调节访问装置包括连接在字线wlx(x＝,,)和偏置电压线bvly(y＝,。)之间的调节mtj器件。工作mtj器件连...

中间填充层中可能还包含其他的中间基板层，元件被上下基板夹在中间填充层之中，与上下基板直接联结或者与中间填充层中的其他中间基板层直接联结。上基板，下基板，元件，中间基板通过焊接的方法电气联结和物理联结。依据本申请另一方面通过本集成电路封装方法封装的集成电路有明显的分层结构，上下两层基板层，中间的元件层，中间基板层，元件层或者中间基板层还被中间的填充层所包裹，填充层使用填充材料加强元件以及上下层的基板的固定，保证元件热的导出，电的绝缘，以及整个集成电路的结构的稳定性。上下两层的基板是分层的，中间基板层也是分层的。设计好的金属层通过联结pad完成集成电路的互联，满足大电流互联要求。深圳市美信...

每个系统板具有在双列直插式存储模块之间交错的冷却管。当这些系统板相对地放置在一起时，每个系统板上的双列直插式存储模块由在另一个系统板上的冷却管冷却。相比于之前的方法，这种方法允许更高密度的双列直插式存储模块，同时仍然提供必要的冷却。这种方法也是安静的，并且由此可以靠近办公室员工放置。这种方法也允许容易的维护，而没有与液体浸入式冷却系统相关的溢出。尽管参考双列直插式存储模块描述了不同实施例，应当认识到的是，所公开的技术可以用于冷却任何集成电路或类似的一个或多个系统和系统中的一个或多个元素/部件。图1是系统100的关系图，在该系统中可以实施不同实施例。系统100包括计算部件120，所述计算...

内的调节mtj器件。然而，电流i的两倍小于切换电流isw，使得没有将数据状态写入至存储单元a,和第三存储单元a,内的工作mtj器件。图c示出了示出从工作mtj器件读取数据状态的读取操作的示意图的一些实施例。如示意图所示，通过将非零偏置电压v(例如，v)施加至字线wl，对存储单元a,内的工作mtj器件实施读取操作。非零偏置电压v将使得读取电流ir通过存储单元a,内的工作mtj器件。通过工作mtj器件的读取电流ir具有取决于工作mtj器件的电阻状态的值。例如，工作mtj器件处于低电阻状态(例如，存储逻辑“”)时的读取电流ir将大于工作mtj器件处于高电阻状态(例如，存储逻辑“”)的读取电流...

在一些实施例中，集成芯片还包括布置在位于工作mtj器件正上方的存储单元内的工作mtj器件，工作mtj器件被配置为存储数据状态。在一些实施例中，工作mtj器件通过不延伸穿过衬底的连续导电路径连接在位线和字线之间。在其它实施例中，涉及集成电路。集成电路包括布置在衬底上方的介电结构内的互连层，互连层通过介电结构与衬底分隔开；以及调节mtj器件，布置在互连层正上方并且被配置为存储数据状态，工作mtj器件通过包括多个互连层并且不延伸穿过衬底的连续导电路径电连接在位线和字线之间。在一些实施例中，集成电路还包括调节访问装置，其具有连接在字线和工作mtj器件之间的调节mtj器件，调节mtj器件具有通过...

使用调节访问装置来选择性地对工作mtj器件提供访问提供了没有驱动晶体管的存储单元。没有驱动晶体管的存储单元允许存储器阵列的尺寸减小，从而改进存储器电路的性能并且减小成本。出了具有调节访问装置的存储器电路的一些额外实施例的示意图，该调节访问装置包括被配置为选择性地对工作mtj器件提供访问的调节mtj器件。存储器电路包括存储器阵列，存储器阵列具有以行和列布置的多个存储单元a,至c,(例如，mram单元)。多个存储单元a。至c,分别包括被配置为存储数据的工作mtj器件和通过调节提供给工作mtj器件的电流而选择性地对工作mtj器件提供访问的调节访问装置。在一些实施例中，调节访问装置包括连接至工...

调节访问装置被配置为通过控制提供给工作mtj器件的电流来选择性地对存储器阵列内的一个或多个工作mtj器件提供访问。在一些实施例中，调节访问装置可以包括一个或多个调节mtj器件，一个或多个调节mtj器件分别包括mtj，mtj具有通过介电遂穿阻挡层b与自由层b分隔开的固定层b。例如，在一些实施例中，调节访问装置可以包括与相关的工作mtj器件连接的并联连接的调节mtj器件和调节mtj器件。在一些实施例中。调节mtj器件、调节mtj器件和工作mtj器件分别包括mtj，mtj具有通过介电遂穿阻挡层与自由层分隔开的固定层。在一些实施例中，固定层可以包括钴(co)、铁(fe)、硼(b)、镍(ni)、...

在所述系统板上的多个印刷电路板插座，多个液体冷却管，每个所述液体冷却管邻接于所述印刷电路板插座中的一个印刷电路板插座地耦联至所述系统板，连接至所述印刷电路板插座的多个集成电路模块，和多个散热器，每个所述散热器与所述集成电路模块中的一个集成电路模块热耦联；以及将所述印刷电路装配件彼此相对地布置，使得所述两个印刷电路装配件的集成电路模块彼此交错，并且所述印刷电路装配件中的每个印刷电路装配件的散热器的顶表面与另一个印刷电路装配件的液体冷却管热耦联。附图说明参考下列附图，根据一个或多个不同实施例详细描述了本公开。附图出于说明的目的提供，并且描绘典型或示例的实施例。图是系统的关系图，在该系统中可...

在互连层的连续上表面正上方形成多个底电极通孔。出了对应于步骤的一些实施例的截面图。在步骤中。在多个底电极通孔正上方形成多个mtj器件。多个mtj器件包括工作mtj器件和一个或多个调节mtj器件。出了对应于步骤的一些实施例的截面图。在步骤中，在多个mtj器件正上方形成多个顶电极通孔。出了对应于步骤的一些实施例的截面图。在步骤中，在多个顶电极通孔上方形成具有多个互连结构的互连层。多个互连结构限定位线和一条或多条字线。出了对应于步骤的一些实施例的截面图。步骤至在衬底上方形成存储单元。在一些实施例中，可以重复步骤至(如步骤所示)以在存储单元上方形成存储单元。出了对应于步骤的一些实施例的截面图。...

本公开的实施方式提供一种用于冷却集成电路的装置，所述装置包括：两个印刷电路装配件，每个所述印刷电路装配件包括：系统板，所述系统板上的多个印刷电路板插座，多个液体冷却管，每个所述液体冷却管邻接于所述印刷电路板插座中的一个印刷电路板插座地耦联至所述系统板，连接至所述印刷电路板插座的多个集成电路模块，和多个散热器，每个所述散热器与所述集成电路模块中的一个集成电路模块热耦联；其中，所述印刷电路装配件彼此相对地布置，使得所述两个印刷电路装配件的集成电路模块彼此交错，并且所述印刷电路装配件中的每个印刷电路装配件的散热器的顶表面与另一个印刷电路装配件的液体冷却管热耦联。在又一个方面中，本公开的实施方...

互连层a在存储单元a,的工作mtj器件、调节mtj器件和调节mtj器件正下方延伸为连续结构。互连层a通过互连层b和多个通孔a连接至存储单元a,的工作mtj器件、调节mtj器件和调节mtj器件。第三互连层c具有离散的互连结构。离散的互连结构限定连接至图的存储器阵列的列内的相应存储单元的两条字线wl至wl以及连接至图的存储器阵列的行内的相应存储单元的位线bl。在一些实施例中，存储单元a,的工作mtj器件、调节mtj器件和调节mtj器件可以通过多个通孔b连接至第三互连层c。在一些实施例中，一个或多个附加存储单元可以布置在存储单元a,上方。在这样的实施例中。第四互连层d在存储单元b,的工作mt...

凌特）以及TI、MAXIM、NXP等国际品牌集成电路。产品广泛应用于：汽车、通信、消费电子、工业控制、医疗器械、仪器仪表、安防监控等领域。本公司一直秉承优势服务，诚信合作的原则，以现代化管理以及优势的渠道价格、良好的信誉与广大客户建立了长期友好的合作关系，为广大厂商和市场客户提供优势的产品服务。在一些实施例中，调节访问装置可以包括与工作mtj器件并联连接的薄膜电阻器和薄膜电阻器。在各个实施例中，调节访问装置可以包括具有基本类似的尺寸或具有不同的尺寸的电阻器。存储器阵列通过多条位线bl至bl和多条字线wl至wl连接至控制电路。在一些实施例中。控制电路包括连接至多条位线bl至bl的位线解码...

满足短联结线路要求，满足佳导热要求。上层基板可选的可以只有一层金属层，此金属层通过联结pad与元件联结。上层基板可选的可以只有一层金属层，此金属层直接暴露在外，加强导热。上层基板可选的可以有上下两层金属层，内层金属层通过联结pad与元件联结，外层金属层直接暴露在外，加强导热。上层基板可选的可以有多层金属层，除了上下两层金属层的内层金属层通过联接pad与元件联结，外层金属层直接暴露在外，加强导热以外，上层基板内部还有一层或者多层金属层，并通过开孔沉金，以完成复杂的集成电路互联。下层基板可选的一定有一层金属层，此金属层上的联结pad就是此集成电路的联结pad，留待pcb应用。下层基板可选的...

深圳市美信美科技有限公司于2020年04月17日成立。公司经营范围包括：一般经营项目是：电子产品及其配件的技术开发与销售；国内贸易等。本公司主营推广销售AD（亚德诺）,LINEAR（凌特）以及TI、MAXIM、NXP等国际品牌集成电路。产品广泛应用于：汽车、通信、消费电子、工业控制、医疗器械、仪器仪表、安防监控等领域。本公司一直秉承优势服务，诚信合作的原则，以现代化管理以及优势的渠道价格、良好的信誉与广大客户建立了长期友好的合作关系，为广大厂商和市场客户提供优势的产品服务。所述多个mtj器件包括工作mtj器件和一个或多个调节mtj器件，所述一个或多个调节mtj器件被配置为选择性地控制流...

多个导电互连层a至c可以包括铜、铝、钨、碳纳米管等。存储单元a,和存储单元b,分别包括调节访问装置和工作mtj器件。调节访问装置连接至限定多条字线wl至wl的互连层a。多条字线wl至wl中的两个连接至图的存储器阵列的一行内的相应存储单元。例如，字线wl至wl可以连接至行中的存储单元a,，并且字线wl至wl可以连接至行中的存储单元b,。在一些实施例中，多条字线wl至wl可以与衬底分隔开非零距离d。互连层b布置在调节访问装置和工作mtj器件之间。工作mtj器件进一步连接至限定位线bl的第三互连层c。位线bl连接至布置在存储器阵列的一列内的存储单元内的工作mtj器件。例如。位线bl连接至图的...

该方法包括在衬底上方形成互连层；在互连层正上方形成多个mtj器件，多个mtj器件包括工作mtj器件和一个或多个调节mtj器件，调节mtj器件被配置为选择性地控制流至工作mtj器件的电流；以及在多个mtj器件上方形成互连层，互连层和互连层中的一个或两个限定位线和一条或多条字线。在一些实施例中，一个或多个调节mtj器件分别包括固定层、自由层和设置在固定层和自由层之间的介电阻挡层。在一些实施例中，该方法还包括同时形成工作mtj器件和一个或多个调节mtj器件。上面概述了若干实施例的特征。深圳市美信美科技有限公司于2020年04月17日成立。公司经营范围包括：一般经营项目是：电子产品及其配件的技...

=集成电路芯片是包括一硅基板、至少一电路、一固定封环、一接地环及至少一防护环的电子元件。中文名集成电路芯片部件1硅基板部件2电路部件3固定封环目录1结构2案例集成电路芯片结构编辑集成电路芯片电路形成于硅基板上，电路具有至少一输出/输入垫。固定封环形成于硅基板上，并围绕电路及输出/输入垫。接地环形成于硅基板及输出/输入垫之间，并与固定封环电连接。防护环设置于硅基板之上，并围绕输出/输入垫，用以与固定封环电连接。集成电路芯片案例编辑芯片命名方式太多了，一般都是字母+数字+字母前面的字母是芯片厂商或是某个芯片系列的缩写。像MC开始的多半是摩托罗拉的，MAX开始的多半是美信的。中间的数字是功能...

mram单元)的尺寸，因为该尺寸不再取决于驱动晶体管的尺寸。出了具有调节访问装置的存储器电路的一些实施例的示意图，该调节访问装置被配置为选择性地对工作mtj器件提供访问。存储器电路包括具有多个存储单元a,至b,的存储器阵列。多个存储单元a,至b,以行和/或列布置在存储器阵列内。例如，行存储单元包括存储单元a,和a,，而列存储单元包括存储单元a,和b,。在一些实施例中，多个存储单元a,至b,可以包括多个mram单元。多个存储单元a,至b,(例如，mram单元)分别包括连接至调节访问装置的工作mtj器件。工作mtj器件包括磁隧道结(mtj)，磁隧道结(mtj)具有通过介电遂穿阻挡层a与自由...

该调节访问装置包括被配置为选择性地对工作mtj器件提供访问的调节mtj器件。存储器电路包括存储器阵列，存储器阵列具有以行和列布置的多个存储单元a,至c,(例如，mram单元)。多个存储单元a。至c,分别包括被配置为存储数据的工作mtj器件和通过调节提供给工作mtj器件的电流而选择性地对工作mtj器件提供访问的调节访问装置。在一些实施例中，调节访问装置包括连接至工作mtj器件的同一层的调节mtj器件和调节mtj器件。例如，调节mtj器件和调节mtj器件可以都连接至工作mtj器件的固定层。在一些实施例中，调节mtj器件连接在工作mtj器件和字线wlx之间(x＝,,)。并且调节mtj器件连接...

在磁固定膜上方形成介电阻挡膜，并且在介电阻挡膜上方形成磁自由膜来形成多个mtj器件、和。可以对磁固定膜、介电阻挡层和磁自由膜实施一个或多个图案化工艺以限定多个mtj器件、和。在其它实施例中，可以在不同时间形成多个mtj器件、和。的截面图所示，在多个mtj器件、和上方形成多个顶电极通孔。多个顶电极通孔由ild层围绕。在一些实施例中。可以在多个mtj器件、和上方沉积ild层，并且然后选择性地图案化ild层以限定顶电极通孔开口。然后通过沉积工艺在顶电极通孔开口内形成多个顶电极通孔。在各个实施例中，ild层可以包括一种或多种介电材料，诸如二氧化硅(sio)、sicoh、氟硅酸盐玻璃、磷酸盐玻璃...