轮廓仪是用容易理解的机械技术测量薄膜厚度。它的工作原理是测量测量划过薄膜的检测笔的高度(见右图)。轮廓仪的主要优点是可以测量所有固体膜，包括不透明的厚金属膜。更昂贵的系统能测绘整个表面轮廓。(有关我们...

EVG®7200LA特征：专有SmartNIL®技术，提供了无人能比的印迹形大面积经过验证的技术，具有出色的复制保真度和均匀性多次使用的聚合物工作印模技术可延长母版使用寿命并节省大量成本强大且精确可控...

EVG®620NT是智能NIL®UV纳米压印光刻系统。用UV纳米压印能力为特色的EVG's专有SmartNIL通用掩模对准系统®技术，在100毫米范围内。EVG620NT以其灵活性和可靠性而闻名，它以...

我们可以根据您的需求提供进行优化的多用途系统。我们的掩模对准系统设计用于从掩模对准到键合对准的快速简便转换。此外，可以使用用于压印光刻的可选工具集，例如UV-纳米压印光刻，热压印或微接触印刷。所有系统...

其中包括家用电器、医药、电子、光学、生命科学、汽车和航空业。肖特在全球34个国家和地区设有生产基地和销售办事处。公司目前拥有员工超过15500名，2017/2018财年的销售额为。总部位于德国美因茨的...

此外，EVG光刻机不断关注未来的市场趋势 - 例如光学3D传感和光子学 - 并为这些应用开发新的方案和调整现有的解决方案，以满足客户不断变化的需求。我们用持续的技术和市场地位证明了这一点，包括EVG在...

EVG6200NT特征：晶圆/基板尺寸从小到200mm/8''系统设计支持光刻工艺的多功能性在弟一次光刻模式下的吞吐量高达180WPH，在自动对准模式下的吞吐量高达140WPH易碎，薄或翘曲的多种尺寸...

EVG®6200NT掩模对准系统（半自动/自动）特色：EVG®6200NT掩模对准器为光学双面光刻的多功能工具和晶片尺寸高达200毫米。技术数据：EVG6200NT以其自动化灵活性和可靠性而著称，可在...

这使得可以在工业水平上开发新的设备或工艺，这不*需要高度的灵活性，而且需要可控和可重复的处理。EVG在要求苛刻的应用中积累了多年的旋涂和喷涂经验，并将这些知识技能整合到EVG100系列中，可以利用我们...

EVG120特征2：先进且经过现场验证的机器人具有双末端执行器功能，可确保连续的高产量；工艺技术桌越和开发服务：多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）智能过程控制...

这使得可以在工业水平上开发新的设备或工艺，这不*需要高度的灵活性，而且需要可控和可重复的处理。EVG在要求苛刻的应用中积累了多年的旋涂和喷涂经验，并将这些知识技能整合到EVG100系列中，可以利用我们...

集成化光刻系统HERCULES光刻量产轨道系统通过完全集成的生产系统和结合了掩模对准和曝光以及集成的预处理和后处理功能的高度自动化，完善了EVG光刻产品系列。HERCULES光刻轨道系统基于模块化平台...