企业商机
肖特基二极管基本参数
  • 品牌
  • 国润,GR
  • 型号
  • MBR20200CT
  • 正极材料
  • 负极材料
  • 封装方式
  • TO-220AB
  • 反向峰值电压
  • 200
  • 额定正向整流电流
  • 20
  • 最大正向压降
  • 0.98
肖特基二极管企业商机

    反向漏电流的组成主要由两部分:一是来自肖特基势垒的注入;二是耗尽层产生电流和扩散电流。[2]二次击穿产生二次击穿的原因主要是半导体材料的晶格缺陷和管内结面不均匀等引起的。二次击穿的产生过程是:半导体结面上一些薄弱点电流密度的增加,导致这些薄弱点上的温度增加引起这些薄弱点上的电流密度越来越大,温度也越来越高,如此恶性循环引起过热点半导体材料的晶体熔化。此时在两电极之间形成较低阻的电流通道,电流密度骤增,导致肖特基二极管还未达到击穿电压值就已经损坏。因此二次击穿是不可逆的,是破坏性的。流经二极管的平均电流并未达到二次击穿的击穿电压值,但是功率二极管还是会产生二次击穿。[2]参考资料1.孙子茭.4H_SiC肖特基二极管的研究:电子科技大学,20132.苗志坤.4H_SiC结势垒肖特基二极管静态特性研究:哈尔滨工程大学,2013词条标签:科学百科数理科学分类。肖特基二极管在电动车控制器上的应用。江西肖特基二极管

    是极有发展前景的电力、电子半导体器件。1.性能特点1)反向恢复时间反向恢复时间tr的概念是:电流通过零点由正向变换到规定低值的时间间距。它是衡量高频续流及整流器件性能的关键技术指标。反向回复电流的波形如图1所示。IF为正向电流,IRM为反向回复电流。Irr为反向回复电流,通常规定Irr=。当t≤t0时,正向电流I=IF。当t>t0时,由于整流器件上的正向电压忽然变为反向电压,因此正向电流快速下降,在t=t1时刻,I=0。然后整流器件上流过反向电流IR,并且IR慢慢增大;在t=t2日子达到反向回复电流IRM值。此后受正向电压的效用,反向电流慢慢减少,并在t=t3日子达到规定值Irr。从t2到t3的反向恢复过程与电容器放电过程有相像之处。2)快回复、超快恢复二极管的结构特点快恢复二极管的内部构造与一般而言二极管不同,它是在P型、N型硅材质中间增加了基区I,组成P-I-N硅片。由于基区很薄,反向回复电荷很小,减少了trr值,还减低了瞬态正向压降,使管子能经受很高的反向工作电压。快回复二极管的反向恢复时间一般为几百纳秒,正向压降约为,正向电流是几安培至几千安培,反向峰值电压可达几百到几千伏。超快恢复二极管的反向恢复电荷更进一步减少,使其trr可低至几十纳秒。江苏肖特基二极管MBRF30100CTMBRF10200CT是什么类型的管子?

    也就是整流接触。第2种输运方式又分成两个状况,随着4H-SiC半导体掺杂浓度的增加,耗尽层逐渐变薄,肖特基势垒也逐渐降低,4H-SiC半导体导带中的载流子由隧穿效应进入到金属的几率变大。一种是4H-SiC半导体的掺杂浓度非常大时,肖特基势垒变得很低,N型4H-SiC半导体的载流子能量和半导体费米能级相近时的载流子以隧道越过势垒区,称为场发射。另一种是载流子在4H-SiC半导体导带的底部隧道穿过势垒区较难,而且也不用穿过势垒,载流子获得较大的能量时,载流子碰见一个相对较薄且能量较小的势垒时,载流子的隧道越过势垒的几率快速增加,这称为热电子场发射。[2]反向截止特性肖特基二极管的反向阻断特性较差,是受肖特基势垒变低的影响。为了获得高击穿电压,漂移区的掺杂浓度很低,因此势垒形成并不求助于减小PN结之间的间距。调整肖特基间距获得与PiN击穿电压接近的JBS,但是JBS的高温漏电流大于PiN,这是来源于肖特基区。JBS反向偏置时,PN结形成的耗尽区将会向沟道区扩散和交叠,从而在沟道区形成一个势垒,使耗尽层随着反向偏压的增加向衬底扩展。这个耗尽层将肖特基界面屏蔽于高场之外,避免了肖特基势垒降低效应,使反向漏电流密度大幅度减小。此时JBS类似于PiN管。

    而是利用金属与半导体接触形成的金属-半导体结原理制作的。因此,SBD也称为金属-半导体(接触)二极管或表面势垒二极管,它是一种热载流子二极管。肖特基二极管是贵金属(金、银、铝、铂等)A为正极,以N型半导体B为负极,利用二者接触面上形成的势垒具有整流特性而制成的金属-半导体器件。因为N型半导体中存在着大量的电子,贵金属中有极少量的自由电子,所以电子便从浓度高的B中向浓度低的A中扩散。显然,金属A中没有空穴,也就不存在空穴自A向B的扩散运动。随着电子不断从B扩散到A,B表面电子浓度逐渐降低,表面电中性被破坏,于是就形成势垒,其电场方向为B→A。但在该电场作用之下,A中的电子也会产生从A→B的漂移运动,从而消弱了由于扩散运动而形成的电场。当建立起一定宽度的空间电荷区后,电场引起的电子漂移运动和浓度不同引起的电子扩散运动达到相对的平衡,便形成了肖特基势垒。肖特基二极管和稳压二极管的区别肖特基二极管不是利用P型半导体与N型半导体接触形成PN结原理制作的,而是利用金属与半导体接触形成的金属-半导体结原理制作的。因此,SBD也称为金属-半导体(接触)二极管或表面势垒二极管,它是一种热载流子二极管。肖特基二极管的封装有哪些?

    肖特基(Schottky)二极管又称肖特基势垒二极管(简称SBD),它属一种低功耗、超高速半导体器件。特点为反向恢复时间极短(可以小到几纳秒),正向导通压降可以低至。其多用作高频、低压、大电流整流二极管、续流二极管、保护二极管,也有用在微波通信等肖特基(Schottky)二极管又称肖特基势垒二极管(简称SBD),它属一种低功耗、超高速半导体器件。在通讯电源、变频器等中比较常见。供参考。电路中作整流二极管、小信号检波二极管使用。在通讯电源、变频器等中比较常见。肖特基(Schottky)二极管的特点是正向压降VF比较小。在同样电流的情况下,它的正向压降要小许多。另外它的恢复时间短。它也有一些缺点:耐压比较低,漏电流稍大些。选用时要细致考虑。 MBR1060CT是什么类型的管子?重庆肖特基二极管MBRF30200CT

肖特基二极管有哪些优缺点?江西肖特基二极管

    快恢复二极管是指反向回复时间很短的二极管(5us以下),工艺上多使用掺金措施,构造上有使用PN结型构造,有的使用改进的PIN结构。其正向压降大于一般而言二极管(),反向耐压多在1200V以下。从性能上可分成快回复和超快恢复两个等级。前者反向回复时间为数百纳秒或更长,后者则在100ns(纳秒)以下。肖特基二极管是以金属和半导体触及形成的势垒为根基的二极管,简称肖特基二极管(SchottkyBarrierDiode),兼具正向压减低()、反向回复时间很短(2-10ns纳秒),而且反向漏电流较大,耐压低,一般小于150V,多用以低电压场合。肖特基二极管和快回复二极管差别:前者的恢复时间比后者小一百倍左右,前者的反向恢复时间大概为几纳秒!前者的优点还有低功耗,大电流,超高速!电属性当然都是二极管!快恢复二极管在制造工艺上使用掺金,单纯的扩散等工艺,可获得较高的开关速度,同时也能得到较高的耐压.目前快恢复二极管主要运用在逆变电源中做整流元件.肖特基二极管:反向耐压值较低(一般低于150V),通态压降,低于10nS的反向恢复时间。它是有肖特基特性的“金属半导体结”的二极管。其正向起始电压较低。其金属层除材质外,还可以使用金、钼、镍、钛等材质。江西肖特基二极管

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