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    本发明涉及半导体制造技术领域，更具体地说，涉及一种抛光减薄装置和抛光减薄方法。背景技术：采用iii-v族化合物制作的半导体器件和超高速数字/数模混合电路等凭借其优良的频率特性，已经成为通讯、雷达、制导、空间防御、高速智能化武器及电子对抗等现代化装备的部件之一。在众多的iii-v族化合物中，inp(磷化铟)化合物具有独特的优势，这主要得益于其优良的材料特性，例如，inp和ingaas(铟镓砷)之间的晶格失配很小，以及电子饱和速率很高等，所以不论是hemt(highelectronmobilitytransistor，高电子迁移率晶体管)结构还是hbt(heterojunctionbipolartransistor，异质结双极晶体管)结构，都具有非常优异的高频、大功率性能。但是，inp材料的物理性能却很差，非常易碎，很小的碰撞或振动都会导致晶圆碎裂而前功尽弃，因此，inp材料的制造加工面临着很多工艺上的难题。尤其是在超高频率、大功率的inp基rfic(射频集成电路)的制造工艺中，如何在对inp基晶圆进行减薄抛光时，减小或避免inp基晶圆的损伤是本领域技术人员亟待解决的问题之一。技术实现要素：有鉴于此，本发明提供了一种抛光减薄装置和抛光减薄方法，以减小或避免inp基晶圆的减薄抛光损伤。为实现上述目的。

    经减薄处理后的玻璃可再次进入所述冲洗区2以经历减薄后清洁并且通过所述转换区1被卸载到外部；所述玻璃减薄设备还设置有制动组件，通过所述制动组件实现所述玻璃加工治具4从所述转换区1经所述冲洗区2向所述蚀刻区3的减薄前移动，以及从所述蚀刻区3经所述冲洗区2向所述转换区1的减薄后移动。在本实施例中，图1内并排设置有2个所述玻璃减薄设备，所述冲洗区2包括冲洗区2、第二冲洗区2和第三冲洗区2，所述第二冲洗区2设置于所述冲洗区2和所述第三冲洗区2之间，所述冲洗区2设置于所述第二冲洗区2和所述转换区1之间，所述第三冲洗区2设置于所述第二冲洗区2和所述蚀刻区3之间。所述转换区1可升降的折叠式结构，从而便于所述玻璃加工治具4在所述转换区1的放置或卸下。较佳的，所述转换区1还设置有装卸臂，通过所述装卸臂可实现对所述玻璃加工治具4的上下料，以及单片玻璃的拿取检测。实施例二如图2所示，图2为所述蚀刻区的结构示意图；所述蚀刻区3包括腔室31、主厚度测量仪32、喷淋组件33和控制器；所述喷淋组件33在所述腔室31中对设置于所述玻璃加工治具4上的玻璃施加减薄处理，所述主厚度测量仪32实时测量在所述腔室31内经历减薄处理的玻璃厚度。减薄用清洗剂，专为去除多余涂层设计，不留痕迹。。

    若干所述侧支撑件44固定设置在所述固定板423的端面上；所述固定板423两端均设置有至少两个固定卡块427，所述固定卡块427一般设置为矩形横截面结构，便于所述固定板423端面的朝向定位；对应的，所述调节槽内设置有固定槽426，当所述固定板423两端各自的两所述固定卡块427分别设置于对应的所述固定槽426内时，设置有所述侧支撑件44的端面对应所述竖直平板421上的所述侧支撑件44，且设置所述侧支撑件44的所述竖直平板421和所述固定板423设置在所述底支撑件43的两侧，从而实现对所述盛放部内玻璃的支撑限位。其中，如图3所示，所述侧板422上所述调节槽的一种实施方式为，所述调节槽包括若干水平槽424和与所述水平槽424均竖直贯通连接的竖直槽425，所述固定槽426设置于所述水平槽424的下边缘，所述固定槽426对应所述固定卡块427设置为u型槽，从而便于固定所述固定卡块427的摆放位置。所述水平槽424和所述竖直槽425的尺寸均对应所述固定卡块427的尺寸设置，使所述固定卡块427可在所述水平槽424和所述竖直槽425内自由移动。在本实施方式中，两所述竖直平板421中一所述竖直平板421上设置有所述侧支撑件44，同一所述水平槽424多只设置一个所述固定卡块427。哪里可以买到玻璃清洗剂；台州玻璃用减薄用清洗剂费用是多少

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