企业商机
减薄用清洗剂基本参数
  • 品牌
  • 博洋化学
  • 纯度级别
  • 超纯/高纯
  • 类别
  • 无机碱
  • 产品性状
  • 液态
减薄用清洗剂企业商机

    所述控制器用于控制减薄处理过程,具体的,在所述玻璃加工治具4从所述冲洗区2移动至所述腔室31内合适位置时打开所述喷淋组件33进行减薄处理操作,并在由所述主厚度测量仪32测得的玻璃厚度达到目标厚度时关闭所述喷淋组件33停止对玻璃进行的减薄处理,以及在减薄完成后控制所述玻璃加工治具4再次向所述冲洗区2移动。所述控制器在喷淋减薄过程中控制所述玻璃加工治具4在所述腔室31内的往复移动。一般的,所述喷淋组件33包括设置于所述腔室31顶部的喷淋头、设置于所述腔室31底部的收集槽、以及与所述喷淋头、所述收集槽均连通的外部喷淋液管路,通过所述喷淋头对所述玻璃加工治具4上的玻璃喷淋喷淋液从而实现玻璃的减薄处理,所述收集槽收集减薄处理后的喷淋液并传输至所述喷淋液管路从所述腔室31内排出。在经历过减薄处理的玻璃从所述转换区1被卸载之后,将容纳玻璃的下一个玻璃加工治具4通过所述转换区1加载到所述腔室31中并且如上所述经历减薄处理。通过以上操作,玻璃顺序地经历减薄处理。值得指出的是,通过所述主厚度测量仪32测量在所述蚀刻区3中经历过减薄处理的所述玻璃厚度达到指定尺寸后再通过所述传输组件将玻璃卸载到所述腔室31外部。具体地。如何区分减薄用清洗剂的的质量好坏。合肥国产减薄用清洗剂技术指标

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    即两所述侧板422之间设置有一排所述固定板423,从而形成对应设置有所述侧支撑件44的所述竖直平板421,在各所述放置部内放置有一排玻璃,可实现所述放置部结构的小型化,便于在同一所述玻璃加工治具4上设置若干所述放置部以使各所述放置部对应不同尺寸的玻璃。图4为所述调节槽的另一种实施方式,所述调节槽包括若干所述水平槽424和与所述水平槽424均竖直贯通连接的所述竖直槽425,所述固定槽426设置于所述水平槽424的下边缘;两所述竖直平板421均设置有所述侧支撑件44,同一所述水平槽424可设置两个所述固定卡块427,即两所述侧板422之间设置有两排所述固定板423,两所述固定板423分别对应两所述竖直平板421,使在同一所述放置部内分割处两个放置空间,从而在各所述放置部内可放置两排玻璃,便于节省所述玻璃加工治具4上的有限空间,可大尺寸玻璃和小尺寸玻璃配合设置于同一所述放置部内。较佳的,两相邻所述水平槽424之间还设置有至少两个定位槽428,所述固定板423两端设置有定位孔429,当所述固定卡块427设置于所述固定槽426内时,所述定位槽428和所述定位孔429位置对应;通过将螺钉穿过所述固定槽426螺纹固定在所述定位孔429中,保证所述固定卡块427在所述固定槽426内。

    图1为本发明实施例提供的一种抛光减薄装置的结构示意图;图2为本发明实施例提供的一种托盘和待加工部件的键合固定方式示意图;图3为本发明实施例提供的一种磁转子的结构示意图;图4为本发明实施例提供一种磁转子的旋转方式的示意图;图5为本发明实施例提供的一种抛光减薄方法的流程示意图。具体实施方式以上是本发明的思想,为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。本发明实施例提供了一种抛光减薄装置,用于对inp基晶圆等部件进行抛光减薄,如图1所示,包括托盘10、喷头11和磁转子12,当然,本发明实施例中的抛光减薄装置还包括反应室13等,托盘10、喷头11和磁转子12等在反应室13内进行抛光和减薄反应。其中,托盘10,可选为石英托盘,用于固定待加工部件20,待加工部件20包括inp基晶圆。喷头11用于向待加工部件20的待加工表面喷涂抛光液110,以对待加工表面进行抛光。去除多余涂层,减薄用清洗剂是您不可或缺的好帮手。

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    实现玻璃与喷淋液充分均匀接触的同时,控制玻璃的摆动幅度,提高玻璃在减薄过程中的安全性。实施例六所述主厚度测量仪32与所述蚀刻区3的内壁相邻,并且具有滑动结构以移动到竖直容纳在所述玻璃加工治具4内的玻璃之中的靠外玻璃附近,从而便于对玻璃厚度进行检测;具体的,在所述控制器的控制下,所述主厚度测量仪32通过向玻璃发射激光束来实时测量玻璃厚度并且在玻璃正经历滑动处理的同时将关于测得厚度的信息发送到所述控制器;所述控制器实时将预设的目标厚度与从所述主厚度测量仪32接收的测得玻璃厚度进行比较。如果确定从所述主厚度测量仪32接收的测得玻璃厚度达到目标厚度,则所述控制器停止减薄处理等操作,并且将所述玻璃加工治具4向所述冲洗区2移动。较佳的,所述主厚度测量仪32可包括:发射器,其用于发射激光束;接收器,其用于接收被玻璃反射的光束;以及分析器,其用于分析接收器中接收的光束并且计算玻璃厚度。所述主厚度测量仪32还可包括空气喷射器,用于将空气喷射到玻璃的将被暴露于从发射器发射的激光束的那部分。在通过发射器发射激光束之前,所述主厚度测量仪32控制所述空气喷射器。苏州质量好的减薄用清洗剂的公司联系方式。扬州国产减薄用清洗剂订做价格

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    本发明涉及半导体制造技术领域,更具体地说,涉及一种抛光减薄装置和抛光减薄方法。背景技术:采用iii-v族化合物制作的半导体器件和超高速数字/数模混合电路等凭借其优良的频率特性,已经成为通讯、雷达、制导、空间防御、高速智能化武器及电子对抗等现代化装备的部件之一。在众多的iii-v族化合物中,inp(磷化铟)化合物具有独特的优势,这主要得益于其优良的材料特性,例如,inp和ingaas(铟镓砷)之间的晶格失配很小,以及电子饱和速率很高等,所以不论是hemt(highelectronmobilitytransistor,高电子迁移率晶体管)结构还是hbt(heterojunctionbipolartransistor,异质结双极晶体管)结构,都具有非常优异的高频、大功率性能。但是,inp材料的物理性能却很差,非常易碎,很小的碰撞或振动都会导致晶圆碎裂而前功尽弃,因此,inp材料的制造加工面临着很多工艺上的难题。尤其是在超高频率、大功率的inp基rfic(射频集成电路)的制造工艺中,如何在对inp基晶圆进行减薄抛光时,减小或避免inp基晶圆的损伤是本领域技术人员亟待解决的问题之一。技术实现要素:有鉴于此,本发明提供了一种抛光减薄装置和抛光减薄方法,以减小或避免inp基晶圆的减薄抛光损伤。为实现上述目的。合肥国产减薄用清洗剂技术指标

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