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    在多个底电极通孔正上方形成多个mtj器件。多个mtj器件包括工作mtj器件和一个或多个调节mtj器件。出了对应于步骤的一些实施例的截面图。在步骤中，在多个mtj器件正上方形成多个顶电极通孔。出了对应于步骤的一些实施例的截面图。在步骤中，在多个顶电极通孔上方形成具有多个互连结构的互连层。多个互连结构限定位线和一条或多条字线。出了对应于步骤的一些实施例的截面图。步骤至在衬底上方形成存储单元。在一些实施例中，可以重复步骤至(如步骤所示)以在存储单元上方形成存储单元。出了对应于步骤的一些实施例的截面图。虽然方法描述了包括具有调节访问装置(包括mtj器件)的存储单元(例如。mram单元)的方法存储器电路，但是应该理解，在其它实施例中，调节装置可以包括电阻器(例如，薄膜电阻器)。在这样的实施例中，工作mtj器件可以通过组操作(在步骤中)形成，而包括电阻器的调节装置可以通过组单独的操作(在步骤和步骤之间发生)形成。例如，在工作mtj的形成(在步骤中)之后，可以通过一个或多个沉积和蚀刻工艺形成电阻器。因此，在一些实施例中。涉及不具有驱动晶体管(即。存取晶体管)的存储单元(例如，mram单元)。而且，存储单元包括调节访问装置。在摩尔定律的推动下，集成电路产品的加工面积成倍缩小，复杂程度与日俱增，集成电路设计的重要性愈发突出。江苏超大规模集成电路报价

    在一些实施例中，固定层可以包括钴(co)、铁(fe)、硼(b)、镍(ni)、钌(ru)、铱(ir)、铂(pt)等。在一些实施例中，介电遂穿阻挡层可以包括氧化镁(mgo)、氧化铝(alo)等。在一些实施例中，自由层可以包括钴(co)、铁(fe)、硼(b)等。在操作期间。字线解码器被配置为选择性地将信号施加至连接至存储器阵列的一条或多条字线wl至wl，并且位线解码器被配置成选择性地将信号施加至连接至存储器阵列的一条或多条位线bl至bl。通过选择性地将信号施加至一条或多条字线wl至wl和一条或多条位线bl至bl，可以在相互排斥的情况下选择性地访问多个工作mtj器件中的不同工作mtj器件。例如，图a至图b示出了图的存储器电路的写入操作的一些实施例的示意图和。示意图和所示的写入操作是实施写入操作的方法的非限制性实例。在其它实施例中，可以可选地使用实施写入操作的其它方法。图a至图b中示出的写入操作在步骤(图a所示)期间将数据状态写入至存储器阵列的一行中的一个或多个存储单元，并且在随后的步骤(图b所示)期间将数据状态写入至存储器阵列的该行中的一个或多个存储单元，以使用两步工艺将数据写入至存储器阵列的整个行。应该理解，为了将数据写入mtj器件。郑州中规模集成电路企业深圳市美信美科技有限公司，只做靠谱的原装进口集成电路。

    在所述互连层正上方形成多个mtj器件，其中，所述多个mtj器件包括工作mtj器件和一个或多个调节mtj器件，所述一个或多个调节mtj器件被配置为选择性地控制流至所述工作mtj器件的电流；以及在所述多个mtj器件上方形成互连层，其中，所述互连层和所述互连层中的一个或两个限定位线和一条或多条字线。附图说明当结合附图进行阅读时，从以下详细描述可佳理解的各个方面。应该指出，根据工业中的标准实践，各个部件未按比例绘制。实际上，为了清楚的讨论，各个部件的尺寸可以任意地增大或减小。出了具有调节访问装置的存储器电路的一些实施例的示意图，该调节访问装置被配置为选择性地对操作磁隧道结(mtj)器件提供访问。出了具有调节访问装置的存储器电路的一些额外实施例的示意图，该调节访问装置包括调节mtj器件，该调节mtj器件被配置为选择性地对工作mtj器件提供访问。图a至图c示出了图的公开的存储器电路的读取和写入操作的一些实施例的示意图。图a至图b示出了对应于图的公开的存储器电路的集成芯片的截面图的一些实施例。图a至图b示出了具有调节访问装置的存储器电路的一些额外实施例。该调节访问装置被配置为选择性地对工作mtj器件提供访问。

    化学机械平坦化工艺)以形成互连层b。的截面图所示，可以在存储单元a,上方形成存储单元b,。存储单元b。可以包括工作mtj器件和调节访问装置，调节访问装置具有形成在第三互连层c和第四互连层d之间的调节mtj器件和。存储单元b,可以根据与关于图至图描述的那些类似的步骤形成。出了形成具有存储器电路的集成芯片的方法的一些实施例的流程图，该存储器电路包括具有调节访问装置的存储单元(例如，mram单元)，该调节访问装置被配置为选择性地对工作mtj器件提供访问。虽然方法示出和描述为一系列步骤或事件，但是应该理解，这些步骤或事件的示出的顺序不被解释为限制意义。例如。一些步骤可以以不同的顺序发生和/或与除了此处示出的和/或描述的一些的其它步骤或事件同时发生。此外，可能不是所有示出的步骤对于实施此处描述的一个或多个方面或实施例都是需要的，并且此处描述的一个或多个步骤可以在一个或多个单独的步骤和/或阶段中实施。在步骤中，在衬底上方形成互连层。互连层可以形成在衬底上方的ild层内。出了对应于步骤的一些实施例的截面图。在步骤中。在互连层的连续上表面正上方形成多个底电极通孔。出了对应于步骤的一些实施例的截面图。在步骤中。进口的德州集成电路，就找深圳美信美科技。

    内的调节mtj器件。然而，电流i的两倍小于切换电流isw，使得没有将数据状态写入至存储单元a,和第三存储单元a,内的工作mtj器件。图c示出了示出从工作mtj器件读取数据状态的读取操作的示意图的一些实施例。如示意图所示，通过将非零偏置电压v(例如，v)施加至字线wl，对存储单元a,内的工作mtj器件实施读取操作。非零偏置电压v将使得读取电流ir通过存储单元a,内的工作mtj器件。通过工作mtj器件的读取电流ir具有取决于工作mtj器件的电阻状态的值。例如，工作mtj器件处于低电阻状态(例如，存储逻辑“”)时的读取电流ir将大于工作mtj器件处于高电阻状态(例如，存储逻辑“”)的读取电流ir。在一些实施例中，位线解码器可以包括多路复用器，多路复用器被配置为确定存储器阵列的期望输出。多路复用器被配置为将来自存储单元a,内的工作mtj器件的读取电流ir选择性地提供给感测放大器，感测放大器被配置为比较ir与由电流源产生的参考电流iref，以确定存储在存储单元a,内的工作mtj器件中的数据状态。图a示出了对应于图的存储器阵列的集成芯片的一些实施例的截面图。集成芯片包括布置在衬底上方的介电结构。介电结构围绕存储单元a,和存储单元b,，存储单元b,邻近于存储单元a,横向定位。这些年来，集成电路持续向更小的外型尺寸发展，使得每个芯片可以封装更多的电路。长沙中规模集成电路选哪家

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