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    铜通孔)连接至上面的互连层。在一些实施例中，底电极通孔和顶电极通孔可以包括金属，诸如氮化钛(tin)、氮化钽(tan)、钛(ti)、钽(ta)等。在一些实施例中，互连层b从调节mtj器件正上方连续延伸至调节mtj器件正上方。调节mtj器件、调节mtj器件和工作mtj器件分别包括由介电遂穿阻挡层分隔开的自由层和固定层。自由层具有被配置为响应于电信号(例如，电流)而改变的磁矩。固定层具有固定的磁取向，该磁取向被配置为用作参考磁方向和/或减少对自由层的磁冲击。在一些实施例中，mtj中的一个或多个可以包括附加层。例如，在一些实施例中。mtj中的一个或多个可以包括位于底电极通孔和固定层之间的反铁磁层。在其它实施例中，mtj中的一个或多个可以包括以各种方式布置的附加固定层(例如，附加固定层、附加固定层等)和/或附加自由层(例如，附加自由层、附加自由层等)以改进mtj的性能。图b示出了对应于图的存储器阵列的集成芯片的一些可选实施例的截面图。集成芯片包括布置在衬底上方的介电结构。介电结构围绕存储单元a,。存储单元a,包括工作mtj器件和具有调节mtj器件和调节mtj器件的调节访问装置。介电结构还围绕多个导电互连层a至f。多个导电互连层a至f包括互连层a。进口集成电路，认准深圳市美信美科技。徐州特大规模集成电路测试

    印刷电路板一般是双侧的，集成电路安装在两侧上。热接口材料6的层热耦联至集成电路。一种常见的热接口材料是热间隙垫。然而，可以使用其他的热接口材料。在所描绘的实施例中，由通过内部铰链连接的一对侧板组成的、能够移除的散热器与热接口材料6的层物理接触。并且因此热耦联至热接口材料6。侧板可以由铝制成。然而，可以使用其他材料来形成侧板。能够移除的一个或多个弹性夹可定位在侧板周围，以将侧板压靠在热接口材料6上，以确保合适的热耦联。图示出了根据一个实施例的流程。尽管流程的步骤以特定顺序示出，这些步骤的部分或全部可以以其他顺序执行、并行地执行或两者的组合。一些步骤可以被省略。参考图，在处，提供两个印刷电路装配件。每个印刷电路装配件包括：系统板；平行地安装在系统板上的多个印刷电路板插座；和多个冷却管6。每个所述冷却管安装在系统板上、平行且邻接于所述印刷电路板插座中对应的一个印刷电路板插座，所述冷却管6中的每个冷却管6具有在冷却管6与系统板相对的一侧上粘附至冷却管6的热接口材料层。在处，流程包括提供多个集成电路模块。例如，集成电路模块可以包括一个或多个双列直插式存储模块组件。每个集成电路模块包括：印刷电路板。广州特大规模集成电路公司集成电路是一种将多个电子元件集成在一起的电路。它是现代电子技术的重要组成部分。

    例如，逻辑“”)。调节访问装置分别具有通过其可以控制提供给相关的工作mtj器件的电流的电阻。例如，调节访问装置a,被配置为控制提供给工作mtj器件a,的电流，调节访问装置b,被配置为控制提供给工作mtj器件b,的电流等。调节访问装置被配置为通过控制提供给工作mtj器件的电流来选择性地对存储器阵列内的一个或多个工作mtj器件提供访问。在一些实施例中，调节访问装置可以包括一个或多个调节mtj器件，一个或多个调节mtj器件分别包括mtj，mtj具有通过介电遂穿阻挡层b与自由层b分隔开的固定层b。例如，在一些实施例中，调节访问装置可以包括与相关的工作mtj器件连接的并联连接的调节mtj器件和调节mtj器件。在一些实施例中。调节mtj器件、调节mtj器件和工作mtj器件分别包括mtj，mtj具有通过介电遂穿阻挡层与自由层分隔开的固定层。在一些实施例中，固定层可以包括钴(co)、铁(fe)、硼(b)、镍(ni)、钌(ru)、铱(ir)、铂(pt)等。在一些实施例中，介电遂穿阻挡层可以包括氧化镁(mgo)、氧化铝(alo)等。在一些实施例中，自由层可以包括钴(co)、铁(fe)、硼(b)等。在其它实施例中，调节访问装置可以包括一个或多个电阻器(例如，包括氮化钽、钽、氮化钛、钛、钨等的薄膜电阻器)。例如。

    图b示出了对应于图a的存储器电路的集成电路的一些实施例的截面图。如截面图所示，调节mtj器件具有尺寸(例如。宽度w)，并且调节mtj器件具有与尺寸不同的尺寸(例如，宽度w)。调节mtj器件的尺寸赋予调节mtj器件更大的切换电流，这可以允许更大的电流。在一些实施例中，工作mtj器件具有与尺寸和尺寸不同的第三尺寸(例如，第三宽度w)。图a至图b示出了包括存储器电路的集成芯片的一些额外实施例，存储器电路具有被配置为选择性地对工作mtj器件提供访问的调节访问装置。图a示出了具有以行和列布置的多个存储单元a,至c,的存储器电路的示意图。多个存储单元a,至c,分别包括被配置为存储数据的工作mtj器件和被配置为选择性地对工作mtj器件提供访问的调节访问装置。调节访问装置包括连接在字线wlx(x＝,,)和偏置电压线bvly(y＝,,)之间的调节mtj器件。工作mtj器件连接在偏置电压线bvly(y＝,,)和位线blz(z＝,,)之间。多个存储单元a,至c,连接至控制电路。控制电路包括被配置为选择性地将信号施加至一条或多条位线blz的位线解码器、被配置为选择性地将信号施加至一条或多条字线wlx的字线解码器以及被配置为选择性地将信号施加至一条或多条偏置电压线bvly的偏置电路。在一些实施例中。深圳美信美集成电路价格好。

    图至图中公开的结构不限于这种方法，而且可以作为于该方法的结构而单独存在。的截面图所示，在衬底上方形成互连层a。在一些实施例中，通过在衬底上方形成层间介电(ild)层来形成互连层a。在一些实施例中，ild层可以通过一个或多个附加介电层与衬底分隔开。图案化ild层以限定沟槽。在一些实施例中，可以通过在ild层上方形成图案化的掩模层(未示出)并且实施蚀刻工艺来去除ild层的未由图案化的掩模层覆盖的各部分来图案化ild层。在沟槽内形成导电材料，以及随后是平坦化工艺(例如。化学机械平坦化工艺)以形成互连层a。在各个实施例中，衬底可以是任何类型的半导体主体(例如。硅、sige、soi等)，诸如半导体晶圆和/或晶圆上的一个或多个管芯，以及任何与其相关的其它类型的半导体和/或外延层。在一些实施例中，ild层可以包括一种或多种介电材料，诸如二氧化硅(sio)、sicoh、氟硅酸盐玻璃、磷酸盐玻璃(例如，硼磷硅酸盐玻璃)等。在一些实施例中，导电材料可以包括通过沉积工艺(例如，cvd、pvd、pe-cvd、ald等)形成的金属(例如，钨、铝等)。在各个实施例中，互连层a可以是互连线层、互连层、第三互连线层或更高金属互连线层。的截面图所示。我国已形成较完整的集成电路产业链，也涌现了一批高质量企业和企业家，在局部已形成了很强的能力。深圳通用集成电路测试

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    内的调节mtj器件。然而，电流i的两倍小于切换电流isw，使得没有将数据状态写入至存储单元a,和第三存储单元a,内的工作mtj器件。图c示出了示出从工作mtj器件读取数据状态的读取操作的示意图的一些实施例。如示意图所示，通过将非零偏置电压v(例如，v)施加至字线wl，对存储单元a,内的工作mtj器件实施读取操作。非零偏置电压v将使得读取电流ir通过存储单元a,内的工作mtj器件。通过工作mtj器件的读取电流ir具有取决于工作mtj器件的电阻状态的值。例如，工作mtj器件处于低电阻状态(例如，存储逻辑“”)时的读取电流ir将大于工作mtj器件处于高电阻状态(例如，存储逻辑“”)的读取电流ir。在一些实施例中，位线解码器可以包括多路复用器，多路复用器被配置为确定存储器阵列的期望输出。多路复用器被配置为将来自存储单元a,内的工作mtj器件的读取电流ir选择性地提供给感测放大器，感测放大器被配置为比较ir与由电流源产生的参考电流iref，以确定存储在存储单元a,内的工作mtj器件中的数据状态。图a示出了对应于图的存储器阵列的集成芯片的一些实施例的截面图。集成芯片包括布置在衬底上方的介电结构。介电结构围绕存储单元a,和存储单元b,，存储单元b,邻近于存储单元a,横向定位。徐州特大规模集成电路测试