企业商机
集成电路基本参数
  • 品牌
  • 亚德诺,凌特,SCT芯洲
  • 型号
  • SCT2650STER/SCT2620MRER
  • 类型
  • 化合物半导体材料,元素半导体材料
  • 材质
集成电路企业商机

    的实施例总体涉及半导体领域,更具体地,涉及集成电路及其形成方法。背景技术:许多现代电子器件包含配置为存储数据的电子存储器。电子存储器可以是易失性存储器或非易失性存储器。易失性存储器在上电时存储数据,而非易失性存储器能够在断开电源时存储数据。磁阻式随机存取存储器(mram)是用于下一代非易失性存储器技术的一种有前景的候选。技术实现要素:根据的一个方面,提供了一种集成芯片,包括:工作磁隧道结(mtj)器件,连接至位线,其中,所述工作磁隧道结器件被配置为存储数据状态;以及调节访问装置,连接在所述工作磁隧道结器件和字线之间,其中,所述调节访问装置包括被配置为控制提供给所述工作磁隧道结器件的电流的一个或多个调节磁隧道结器件。根据的另一个方面,提供了一种集成电路,包括:互连层,布置在衬底上方的介电结构内,其中,所述互连层通过所述介电结构与所述衬底分隔开;以及工作mtj器件,布置在所述互连层正上方并且被配置为存储数据状态,其中,所述工作mtj器件通过包括多个互连层且不延伸穿过所述衬底的连续导电路径电连接在位线和字线之间。根据的又一个方面,提供了一种形成集成电路的方法。包括:在衬底上方形成互连层。集成电路可以把模拟和数字电路集成在一个单芯片上,以做出如模拟数字转换器和数字模拟转换器等器件。上海中规模集成电路器件

上海中规模集成电路器件,集成电路

    mram单元),各存储单元具有被配置为选择性地对工作mtj器件提供访问的调节访问装置。虽然关于方法描述了图至图,但是应该理解,图至图中公开的结构不限于这种方法,而且可以作为于该方法的结构而单独存在。的截面图所示,在衬底上方形成互连层a。在一些实施例中,通过在衬底上方形成层间介电(ild)层来形成互连层a。在一些实施例中,ild层可以通过一个或多个附加介电层与衬底分隔开。图案化ild层以限定沟槽。在一些实施例中,可以通过在ild层上方形成图案化的掩模层(未示出)并且实施蚀刻工艺来去除ild层的未由图案化的掩模层覆盖的各部分来图案化ild层。在沟槽内形成导电材料,以及随后是平坦化工艺(例如。化学机械平坦化工艺)以形成互连层a。在各个实施例中,衬底可以是任何类型的半导体主体(例如,硅、sige、soi等),诸如半导体晶圆和/或晶圆上的一个或多个管芯,以及任何与其相关的其它类型的半导体和/或外延层。在一些实施例中,ild层可以包括一种或多种介电材料,诸如二氧化硅(sio)、sicoh、氟硅酸盐玻璃、磷酸盐玻璃(例如,硼磷硅酸盐玻璃)等。在一些实施例中,导电材料可以包括通过沉积工艺(例如,cvd、pvd、pe-cvd、ald等)形成的金属(例如,钨、铝等)。无锡计算机集成电路排名深圳美信美集成电路测试严格过关。

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    每个系统板具有在双列直插式存储模块之间交错的冷却管。当这些系统板相对地放置在一起时,每个系统板上的双列直插式存储模块由在另一个系统板上的冷却管冷却。相比于之前的方法,这种方法允许更高密度的双列直插式存储模块,同时仍然提供必要的冷却。这种方法也是安静的,并且由此可以靠近办公室员工放置。这种方法也允许容易的维护,而没有与液体浸入式冷却系统相关的溢出。尽管参考双列直插式存储模块描述了不同实施例,应当认识到的是,所公开的技术可以用于冷却任何集成电路或类似的一个或多个系统和系统中的一个或多个元素/部件。图1是系统100的关系图,在该系统中可以实施不同实施例。系统100包括计算部件120,所述计算部件包括处理器104和存储器106。存储器106包括多个双列直插式存储模块组件108。系统100还包括冷却回路。所述冷却回路包括泵110、热交换器112和储液器114。泵110将冷却液体130提供给双列直插式存储模块组件108。由双列直插式存储模块组件108产生的热量被传送给液体,加热液体并且冷却双列直插式存储模块组件108。泵110将被加热的液体132从双列直插式存储模块组件108移除。热交换器112冷却被加热的液体132。储液器114适应液体体积的改变。

    所述调节访问装置包括被配置为控制提供给所述工作磁隧道结器件的电流的一个或多个调节磁隧道结器件。根据的另一个方面,提供了一种集成电路,包括:互连层,布置在衬底上方的介电结构内,其中,所述互连层通过所述介电结构与所述衬底分隔开;以及工作mtj器件,布置在所述互连层正上方并且被配置为存储数据状态,其中,所述工作mtj器件通过包括多个互连层且不延伸穿过所述衬底的连续导电路径电连接在位线和字线之间。根据的又一个方面,提供了一种形成集成电路的方法。包括:在衬底上方形成互连层。深圳市美信美科技有限公司于2020年04月17日成立。公司经营范围包括:一般经营项目是:电子产品及其配件的技术开发与销售;国内贸易等。本公司主营推广销售AD(亚德诺),LINEAR(凌特)以及TI、MAXIM、NXP等国际品牌集成电路。产品广泛应用于:汽车、通信、消费电子、工业控制、医疗器械、仪器仪表、安防监控等领域。本公司一直秉承优势服务,诚信合作的原则,以现代化管理以及优势的渠道价格、良好的信誉与广大客户建立了长期友好的合作关系,为广大厂商和市场客户提供优势的产品服务。在所述互连层正上方形成多个mtj器件,其中。数字集成电路可以包含任何东西,在几平方毫米上有从几千到百万的逻辑门、触发器、多任务器和其他电路。

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    以在选择和未选择的单元之间提供隔离。a的示意图所示,写入操作的步骤通过将数据状态写入存储器阵列的行中的存储单元a,和第三存储单元a,内的工作mtj器件来实施。通过将非零偏置电压v(例如,v)施加至字线wl和wl,将非零偏置电压v(例如,v)施加至字线wl,将第三非零偏置电压v(例如,v)施加至位线bl和bl,并且将第四非零偏置电压v(例如,v)施加至位线bl来实施写入操作的步骤。非零偏置电压v(例如,v)和第三非零偏置电压v(例如,v)之间的差异使得电流i流过存储单元a,和第三存储单元a,内的调节mtj器件。电流i小于切换电流isw,使得存储单元a,和第三存储单元a。内的调节mtj器件的状态不变。然而,来自调节mtj器件的电流加在一起,使得为电流i的两倍的电流流过存储单元a,和第三存储单元a,内的工作mtj器件。电流i的两倍的电流大于切换电流isw,以将数据状态写入存储单元a,和第三存储单元a,内的工作mtj器件。存储单元a。内的工作mtj器件不受写入操作的步骤的影响,因为非零偏置电压v(例如。v)和第四非零偏置电压v(例如,v)之间的差异使得电流i流过存储单元a,内的调节mtj器件。然而,电流i的两倍小于切换电流isw,因此没有将数据状态写入至存储单元a,内的工作mtj器件。类似地。集成电路是电路(主要包括半导体设备,也包括被动组件等)小型化的方式。通用集成电路芯片

从进口情况来看,集成电路行业已成为我国进口依赖程度较高的行业之一。上海中规模集成电路器件

    例如,逻辑“”)。调节访问装置分别具有通过其可以控制提供给相关的工作mtj器件的电流的电阻。例如,调节访问装置a,被配置为控制提供给工作mtj器件a,的电流,调节访问装置b,被配置为控制提供给工作mtj器件b,的电流等。调节访问装置被配置为通过控制提供给工作mtj器件的电流来选择性地对存储器阵列内的一个或多个工作mtj器件提供访问。在一些实施例中,调节访问装置可以包括一个或多个调节mtj器件,一个或多个调节mtj器件分别包括mtj,mtj具有通过介电遂穿阻挡层b与自由层b分隔开的固定层b。例如,在一些实施例中,调节访问装置可以包括与相关的工作mtj器件连接的并联连接的调节mtj器件和调节mtj器件。在一些实施例中。调节mtj器件、调节mtj器件和工作mtj器件分别包括mtj,mtj具有通过介电遂穿阻挡层与自由层分隔开的固定层。在一些实施例中,固定层可以包括钴(co)、铁(fe)、硼(b)、镍(ni)、钌(ru)、铱(ir)、铂(pt)等。在一些实施例中,介电遂穿阻挡层可以包括氧化镁(mgo)、氧化铝(alo)等。在一些实施例中,自由层可以包括钴(co)、铁(fe)、硼(b)等。在其它实施例中,调节访问装置可以包括一个或多个电阻器(例如,包括氮化钽、钽、氮化钛、钛、钨等的薄膜电阻器)。例如。上海中规模集成电路器件

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