氧化工艺是集成电路制造中的基础工艺之一，其作用是在硅片表面形成一层氧化膜，以保护硅片表面免受污染和损伤。氧化膜的厚度和质量对电路的性能和可靠性有着重要的影响。在氧化工艺中，硅片首先被清洗干净，然后放入氧化炉中，在高温高压的氧气环境下进行氧化反应，形成氧化膜。氧化膜的厚度可以通过调节氧化时间和温度来控制。此外，氧化工艺还可以用于形成局部氧化膜，以实现电路的局部隔离和控制。光刻工艺是集成电路制造中较关键的工艺之一，其作用是在硅片表面上形成微小的图案，以定义电路的结构和功能。集成电路的应用推动了数字化时代的到来，改变了人们的生活方式和工作方式。MC74ACT00DR2
科技重大专项是国家科技计划的重要组成部分，旨在支持国家重大科技需求和战略性新兴产业的发展。在集成电路产业中，科技重大专项的支持可以促进技术创新和产业升级。例如，针对集成电路制造工艺和设备的研发，科技重大专项可以提供资金支持和技术指导，加速新技术的应用和推广。此外，科技重大专项还可以支持集成电路设计和芯片开发等领域的研究，提高国内集成电路产业的中心竞争力。除了资金支持，科技重大专项还可以提供政策和法规的支持。例如，国家可以出台相关政策，鼓励企业加大对集成电路产业的投入，提高企业的技术创新能力和市场竞争力。FDS4435BZ集成纳米级别设备的IC在泄漏电流方面存在挑战，制造商需要采用更先进的几何学来解决这一问题。
集成电路的大规模生产和商业化应用标志着现代科技发展的重要里程碑。从社会角度来看，集成电路的出现对于人类社会的发展产生了深远的影响。集成电路的应用，不仅改变了人们的生产和生活方式，也为人们提供了更多的便利和选择。集成电路的应用，使得信息的传递和处理更加快速和高效，为人们的生产和生活带来了极大的便利。同时，集成电路的应用也为人们提供了更多的选择，让人们的生活更加多样化和丰富化。集成电路的出现，不仅推动了科技的发展，也为人类社会的进步带来了巨大的贡献。
这些年来，IC持续向更小的外型尺寸发展，使得每个芯片可以封装更多的电路。这样增加了每单位面积容量，可以降低成本和增加功能－见摩尔定律，集成电路中的晶体管数量，每两年增加一倍。总之，随着外形尺寸缩小，几乎所有的指标改善了－单位成本和开关功率消耗下降，速度提高。但是，集成纳米级别设备的IC不是没有问题，主要是泄漏电流（leakage current）。因此，对于用户的速度和功率消耗增加非常明显，制造商面临使用更好几何学的尖锐挑战。这个过程和在未来几年所期望的进步，在半导体国际技术路线图（ITRS）中有很好的描述。集成电路的设计考虑功耗、散热和可靠性等因素，以实现电路的更优性能和稳定性。
集成电路是主流，就是把实现某种功能的电路所需的各种元件都放在一块硅片上，所形成的整体被称作集成电路。对于“集成”，想象一下我们住过的房子可能比较容易理解：很多人小时候都住过农村的房子，那时房屋的主体也许就是三两间平房，发挥着卧室的功能，门口的小院子摆上一副桌椅，就充当客厅，旁边还有个炊烟袅袅的小矮屋，那是厨房，而具有独特功能的厕所，需要有一定的隔离，有可能在房屋的背后，要走上十几米……后来，到了城市里，或者乡村城镇化，大家都住进了楼房或者套房，一套房里面，有客厅、卧室、厨房、卫生间、阳台，也许只有几十平方米，却具有了原来占地几百平方米的农村房屋的各种功能，这就是集成。集成电路产业链的完善和技术进步，为经济发展和社会进步做出了巨大贡献。MC74ACT00DR2
集成电路产业是一种技术密集型产业，需要不断进行技术创新和研发。MC74ACT00DR2
前述将电路制造在半导体芯片表面上的集成电路又称薄膜（thin-film）集成电路。另有一种厚膜（thick-film）混成集成电路（hybrid integrated circuit）是由单独半导体设备和被动元件，集成到衬底或线路板所构成的小型化电路。集成电路具有体积小，重量轻，引出线和焊接点少，寿命长，可靠性高，性能好等优点，同时成本低，便于大规模生产。它不仅在工、民用电子设备如收录机、电视机、计算机等方面得到普遍的应用，同时在通讯、遥控等方面也得到普遍的应用。用集成电路来装配电子设备，其装配密度比晶体管可提高几十倍至几千倍，设备的稳定工作时间也可很大程度上提高。MC74ACT00DR2
