嘉兴快速干燥真空烘箱调试调整

    热对流真空烘箱，包括真空箱体和密封门，真空箱体的箱口采用法兰面，此面与箱体密封门紧密贴合，避免真空泄漏。真空箱体内壁设置无孔镜面不锈钢板13、有孔镜面不锈钢板14，这两种不锈钢板组合配对装配，与无孔镜面不锈钢板14靠箱体内壁，有孔镜面不锈钢板13在箱体内表面，两钢板间距为5—15mm，无孔镜面不锈钢板用来反射热量，热量通过小孔回到箱体中，减少热量损失。在箱体顶部内壁设置有孔镜面不锈钢板12。箱体顶部和下部左右两边各设置有氮气进气口，可以实现氮气快速扩散到箱体内部各地方。真空箱体在工作的时候，真空度控制在10～50pa之间，温度控制在80～110℃，这样电池中的水份会变成水蒸汽扩散在箱体中，原箱体中也有少量的空气，真空干燥箱保温保压一段时间后，箱体中的水蒸汽达到一定的量后，为了将水蒸汽排出，需向箱体中充入氮气，因为氮气的分子质量比水蒸汽的分子质量大，为了能快速将水蒸汽排挤到箱体上方，方便将其从真空口抽出，所以在箱体下方布置2-3个进氮气进气口。这样的设置方式可以减少静置时间，氮气快速扩散，将水蒸汽排挤到箱体上方，再通过真空泵将水蒸汽抽出。真空箱体氮气进气口预先对氮气进行加热，因为氮气进到高温箱体中时。真空箱外壳必须有效接地，以保证使用安全。嘉兴快速干燥真空烘箱调试调整

真空烘箱由高真空度真空泵，箱体，工作室，电加热器及数字温度器组成。能够在设定的真空度条件下稳定工作，适用于医药、化工、电子、器、材料、零件的真空乾燥处理。箱体外壳以冷扎板喷塑，美观悦目。内箱以不锈钢板密焊耐压工艺处理，配上门上的硅胶密封压垫，保证箱内的气密性，并采用玻璃纤维保温，提供高效绝热，节省能耗效果。发热板安装在内箱体四侧，以保证温度均匀性。广用于医药、食品、轻工、化工、电子等行业作干燥之用，具有干燥物品速度快、污染小、不对干燥物品的内在质量造成破坏的优点。台州噪音小真空烘箱规格尺寸干燥的物品如干燥后改变为重量轻，体积小（为小颗粒状），应在工作室内抽真空口加隔阻网。

低温对产品的影响1、橡胶等柔韧性材料的弹性降低，并产⽣破裂；2、⾦属和塑料脆性增⼤，导致破裂或产⽣裂纹；3、由于材料的收缩系数不同，在温变率较⼤时，会引起活动部件卡死或转动不灵；4、润滑剂粘性增⼤或凝固，活动部件之间摩擦⼒增⼤，引起动作滞缓，甚⾄停⽌⼯作；5、元器件电参数发⽣变化，影响产品的电性能；6、结冰或结霜引起产品结构破坏或受潮等。⼆、低温环境效应1、使材料硬化及脆化。2、不同材料的不同收缩特性⽽使零件卡死。3、由于润滑剂增加黏性⽽失去润滑作⽤。4、电性改变（如电阻,电容等）。5、变压器和机电组件功能改变。6、冲击基座变硬。7、物破裂,如铵硝酸。8、使试件产⽣裂痕、脆化并改变耐冲击强度及减低强度。9、玻璃产⽣静⼒疲劳。10、使⽔凝结和冰冻。11、减低⼈的灵巧性及使听⼒和视⼒退化。12、改变燃烧速率。

    塑料制品的热处理是指将成型制品在一定温度下停留一段时间而消除内应力的方法。热处理是消除塑料制品内取向应力的比较好方法。对制件进行热处理，可以使高聚物分子由不平衡构象向平衡构象转变，使强迫冻结的处于稳定的高弹形变获得能量而进行热松弛，从而降低或基本消除内应力。常采用的热处理温高于制件使用温度10~20℃或低于热变形温度5~10℃。热处理时间取决于塑料种类、制厚度、热处理温度和注塑条件。一般厚度的制件，热处理1~2小时即可，随着制件厚度增热处理时间应适当延长。提高热处理温度和延长热处理时间具有相似的效果，但温度的效更明显些。热处理方法：1）是将制件放入水、甘油、矿物油、乙二醇和液体石蜡等液体介质中，2）放入空气循环烘箱中加热到指定温度，并在该温度下停留一定时间，然后缓慢冷却到室温。实验表明，脱模后的制件立即进行热处理，对降低内应力、改善制件性能的效果更明显。此外，提高模具温度，延长制件在模内冷却时间，脱模后进行保温处理都有类似热处理的作用。 放气阀橡皮塞若旋转困难，可在内涂上适量油脂润滑。

    充氮真空烘箱(N2VacuumOvens)适用范围:适用于半导体、电子产品、五金制品、医疗卫生、仪器仪表、工厂、高等院校、科研等部门作无氧化干燥、固化、焊接、退火等高温处理。产品特点:1、迅速脱氧：该箱内胆采用不锈钢制造，箱壁接缝全部采用氩弧焊焊接，密封性能较好，能快速脱氧；2、氮气功能：可充入氮气、氩气等惰性气体，实现气氛、无氧、降温之功能；3、高效率：稳定和快速的升温性能，有助于提高产品质量和效率；4、保温节能：箱体与工作室之间填充高密度纤维棉作保温材料，有效保温节能；5、密封性好：箱门与工作室外框设有耐高温无尘密封条和压紧装置,有效地保证了箱体的密封性能；6、置物架：工作室内设计可抽取的载物网板；7、美观简洁：设备外形美观，操作简便，控温灵敏准确；8、宽泛的温度范围选择。真空泵在运行过程中，轴承温度不能超过环境温度35C，最高温度不得超过80C。杭州易维护真空烘箱

依据真空泵的性能，抽到压力表为真空泵的极限值为准；嘉兴快速干燥真空烘箱调试调整

    为获得平坦而均匀的光刻胶涂层并使光刻胶与晶片之间有良好的黏附性，通常在涂胶前对晶片进行预处理。预处理第一步常是脱水烘烤，在真空或干燥氮气的机台中，以150～200℃烘烤。工艺目的是除去晶片表面吸附的水分，在此温度下，晶片表面大约保留了一个单分子层的水。涂胶后，晶片须经过一次烘烤，称之软烘或前烘。工艺作用是除去胶中大部分溶剂并使胶的曝光特性固定。通常，软烘时间越短或温度越低会使得胶在显影剂中的溶解速率增加且感光度更高，但对比度会有降低。实际上软烘工艺需要通过优化对比度而保持可接受感光度的试凑法用实验确定，典型的软烘温度是90～100℃，时间从用热板的30秒到用烘箱的30分钟。在晶片显影后，为了后面的高能工艺，如离子注入和等离子体刻蚀，也须对晶片进行高温烘烤，称之后烘或硬烘。这一工艺目的在于：减少驻波效应；激发化学增强光刻胶PAG产生的酸与光刻胶上的保护基团发生反应并移除基团使之能溶解于显影液。 嘉兴快速干燥真空烘箱调试调整

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