高像素传感器设计方案取决于的光对焦水平，要求严格图象室内空间NA的眼镜片。另一方面，光谱共焦位移传感器的屏幕分辨率通常采用光谱抗压强度的全半宽来精确测量。高NA能够降低半宽，提高分辨率。因而，在设计超色差摄像镜头时，NA应尽可能高的。高图象室内空间NA能提高传感器系统的灯源使用率，使待测表层轮廊以比较大视角或一定方向歪斜。可是，NA的提高也会导致球差扩大，并产生电子光学设计优化难度。传感器检测范围主要是由超色差镜片的纵向色差确定。因为光谱仪在各个波长的像素一致，假如纵向色差与波长之间存在离散系统，这类离散系统也会导致感应器在各个波长的像素或敏感度存在较大差别，危害传感器特性。纵向色差与波长的线性相关选用线形相关系数来精确测量，必须接近1。一般有两种方法能够形成充足强的色差：运用玻璃的当然散射;应用衍射光学元器件(DOE)。除开生产制造难度高、成本相对高外，当能见光根据时 ，透射耗损也非常高。激光位移传感器在微位移测量领域具有广泛应用。国内光谱共焦量大从优
光谱共焦测量技术是共焦原理和编码技术的结合。白色光源和光谱仪可以完成一个相对高度范围的准确测量。光谱共焦位移传感器的准确测量原理如图1所示。在光纤和超色差镜片的帮助下，产生一系列连续而不重合的可见光聚焦点。当待测物体放置在检测范围内时，只有一种光波长能够聚焦在待测物表面并反射回来，产生波峰信号。其他波长将失去对焦。使用干涉仪的校准信息可以计算待测物体的位置，并创建对应于光谱峰处波长偏移的编码。超色差镜片通过提高纵向色差，可以在径向分离出电子光学信号的不同光谱成分，因此，是传感器的关键部件，其设计方案非常重要。国内光谱共焦量大从优国内外已经有很多光谱共焦技术的研究成果发表。
光谱共焦位移传感器包括光源、透镜组和控制箱等组成部分 。光源发出一束白光，透镜组将其发散成一系列波长不同的单色光，通过同轴聚焦在一定范围内形成一个连续的焦点组 ，每个焦点的单色光波长对应一个轴向位置。当样品位于焦点范围内时，样品表面会聚焦后的光反射回去，这些反射回来的光再经过与镜头组焦距相同的聚焦镜再次聚焦后通过狭缝进入控制箱中的单色仪。因此，只有位于样品表面的焦点位置才能聚焦在狭缝上，单色仪将该波长的光分离出来，由控制箱中的光电组件识别并获取样品的轴向位置。采用高数值孔径的聚焦镜头可以使传感器达到较高分辨率，满足薄膜厚度分布测量要求。
随着社会不断的发展，我们智能设备的进化越发迅速，愈发精密的设备意味着，对点胶设备提出更高的要求，需要应对更高的点胶精度。更灵活的点胶角度。目前手机中板和屏幕模组贴合时，需要在中板上点一圈透明的UV胶，这种胶由于白色反光的原因，只能使用光谱共焦传感器进行完美测量，使用非接触式光谱共焦传感器，可以避免不必要的磕碰。由于光谱共焦传感器的复合光特性，可以完美的高速测量胶水的高度和宽度。由于胶水自身特性：液体，成型特性：带有弧形，材料特性：透明或半透明。普通测量工具测试困难 。光谱共焦位移传感器可以实时监测材料的变化情况，对于研究材料的力学性能具有重要意义；
具有1 mm纵向色差的超色差摄像镜头，拥有0.4436的图象室内空间NA和0.991的线形相关系数R²。这个构造达到了原始设计要求，表现出了光学性能。在实现线性散射方面，有一些关键条件需要考虑，并且可以采用不同的优化方法来完善设计。首先，线性散射的完成条件是确保摄像镜头的各光谱成分具有相同的焦点位置，以减少色差。为了满足这一条件，需要采用精确的光学元件制造和装配，以确保不同波长的光线汇聚在同一焦点上。此外，使用特殊的透镜设计和涂层技术也可以减小纵向色差。在优化设计方面，一类方法是采用非球面透镜，以更好地校正色差，提高图象质量。另一类方法包括使用折射率不同的材料组合，以控制光线的传播和散射。此外，可以通过改进透镜的曲率半径、增加光圈叶片数量和设计更复杂的光学系统来进一步提高性能。总结而言，这项研究强调了高线性纵向色差和高图象室内空间NA在超色差摄像镜头设计中的重要性。这个设计方案展示了光学工程的进步，表明光谱共焦位移传感器的商品化生产制造将朝着高线性纵向色差、高图象室内空间NA的趋势发展，从而提供更精确和高性能的成像设备，满足了不同领域的需求 。光谱共焦技术在材料科学领域可以用于材料表面和内部的成像和分析。新品光谱共焦价格
光谱共焦技术可以实现高分辨率的成像和分析。国内光谱共焦量大从优
位移是在光轴方向上从预定的基准位置到测量对象的距离。通过计算位移能够测量表面上的凹凸的深度或高度、透明体的厚度等。在一些共焦位移传感器中，包括共焦光学系统的头单元以及包括投光用光源和分光器的约束装置由单独的装置构成。投光用光源的光经由包括光纤的线缆传送到头单元。在该类型的位移计中，头单元通常设置在测量对象附近并且远离约束装置。在以上说明的传统共焦位移传感器中，难以在设置头单元期间辨识头单元是否被适当地设置。即使在约束装置侧设置了显示部，操作者也难以进行设置作业以从头单元的设置位置附近的位置确认约束装置的显示。因此，为了确认显示，操作者必须移动到约束装置的设置位置。如果头单元的设置状态不合适，则操作者必须反复作业，以移动到头单元的设置位置并调整头单元的位置和姿势，之后再次移动到约束装置的设置位置并确认显示在传统的共焦位移传感器中,还难以在头单元的设置位置附近辨识约束装置是否正常操作。国内光谱共焦量大从优
