企业商机
Tracepro基本参数
  • 产地
  • 上海
  • 品牌
  • Tracepro
  • 型号
  • Tracepro
  • 是否定制
Tracepro企业商机

光学扩展量要求

在许多显示应用中都需要LED小角度出光。光学部件需要将朗伯分布改变为小角度分布。

颜色变化

通过LED荧光粉的形状的体积限制来控制。

TracePro是一款很直观的工具来模拟LED模型的性能和几何结构,从而确定它的输出特性。

在这个过程中表面光源属性工具会被用到,帮助使用者快速精确的输入角度和光谱数据。

实用工具

该功能帮助使用者数字化从屏幕上获得的光谱以及从LED生产商获得的角度分布图表,包括相对光谱功率分布,以及极坐标或直角坐标下的辐射度分布。 上海复光光学模拟Tracepro。上海复瞻复光反光杯设计Tracepro技术支持

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光学追迹功能包括:

l  分光

l  准确的光线追踪-----不错过交叉或虚弱的光线

l  分析模式光线追迹对于交互式视图在任何表面或物体上的分析结果都是完整的

l  仿真模式光线追迹在追踪大量光线时的内存消耗是非常少或者是没有的

l  多出射面(仿真模式)

l  均匀或八叉树的立体像素地光线追迹使物体空间体素化

l  孔径衍射

l  重点分层采样

l  通过反向光线追迹来完善抽样方法的设计

TracePro仿真布局在发光强度,辐照度/光照度和波动在一个模型或在选定面使用Monte Carlo的方法追踪光线。光源由发射光线建模。此外,在TracePro表面光源属性中可以绘制面源属性直接从制造商的数据表导入。 上海复瞻复光设计优化Tracepro课程上海复光复瞻Tracepro**。

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优化方法

TracePro的2D和3D优化器用的是优化算法,也称作Nelder-Mead算法。

这种下山单纯形法是一种局部优化,收敛于**靠近起始点的局部**小解。在优化中,你可以控制这个优化过程,监测临时解决方案。你可以暂停优化器改变原始参数,然后重新优化。这种算法让你可以控制整个过程,并且能在很少的时间内找到更好的方案。

CAD整合

TracePro通过它的对于SolidWorks的桥梁接口来提供对SolidWorks的无缝整合,一个SolidWorks的加载项允许光学属性直接被用到SolidWorks的模型中,保持从SolidWorks中导出到TracePro中的模型机械和光学属性不变。其结果是,在不**了性能和功能情况下提高了设计工作效率。

宏语言功能

你可以利用TracePro强大的宏语言功能来控制新创建的几何物体,完善每个面和物体的光学属性,以及控制物体的位置。在你优化的前、中、后每个阶段都能查看到每一个变量。

优化方法

TracePro的2D和3D优化器用的是优化算法,也称作Nelder-Mead算法来优化。

这种下山单纯形法是一种局部优化,收敛于**靠近起始点的局部**小解。在优化中,你可以控制这个优化过程,监测临时解决方案。你可以暂停优化器改变原始参数,然后重新优化。这种算法让你可以控制整个过程,并且能在很少的时间内找到更好的方案。 上海复光Tracepro教程。

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光线集定义使用以下三种方法的任何组合:

格点光源------指定的空间和光束角度、波长、光束大小以及有光束方向,偏振状态和偏振度

表面光源-----使用光通量或辐照度/光照度确定任何物体的一个或多个表面的指定分数角度和发射光谱。物体表面同样可以被定义为黑体或灰体辐射器。任何物组合的体表面都可以被定义为光源。

档案光源-----预先定义的光源表格包括每条光线的XYZ起始点、方向矢量、偏振状态、波长数据、初始光通量值以及斯托克斯矢量。光源文件一般是从光源测量或理论计算产生的。 上海复光复瞻Tracepro课程。上海复瞻复光反光杯设计Tracepro技术支持

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TracePro的2D和3D优化

交互式地完善您的设计以达到理想结果。

简化原型工艺来优化

TracePro通过利用2D对称和3D非对称优化器来简化光学和照明系统从原型到制作的过程。而不同于传统的优化器,TracePro提供了一种简单易用、独特的功能来监测和控制制作过程的每一步。

设计过程

设计过程一般分为三个步骤:画原始设计草图,用CAD略图功能将变量限制数据化,用强度、效率、辐照度、颜色、均匀性等参数建立评价函数。

评价函数根据你的预期目标通过权重来平衡多个操作对象。

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